판매용 중고 HANTEX DEVELOPMENT LIMITED TWC-200A #9133863

HANTEX DEVELOPMENT LIMITED TWC-200A는 모든 기능을 갖춘 고밀도, 마스크 및 사진 정렬기입니다. 마이크로일렉트로닉 (microelectronic) 장치의 제작에서 광석학 (photolithography) 과 같은 사진에 민감한 마스크 재료의 정렬에 사용됩니다. TWC-200A (Automatic Edge Locating Equipment) 는 EAL (Automatic Edge Locating Equipment) 을 통해 모양에 작은 불규칙성에 관계없이 미리 처리된 마스크의 가장자리를 정확하게 찾을 수 있습니다. 이 EAL 시스템 (EAL 시스템) 은 극한의 온도 및 습도 조건에서 작동하는 경우에도 마스크 이미지를 기판으로 정확하게 정렬할 수 있도록 도와줍니다. HANTEX DEVELOPMENT LIMITED TWC-200A (HANTEX DEVELOPMENT LIMITED TWC-200A) 는 또한 자동 오염 제어 장치를 특징으로하며, 정렬 과정에서 렌즈 표면에서 수집 할 수있는 입자를 스캔하고 감지 할 수 있습니다. 이 기계는 광학 결함 (optical defects) 과 수차 (수차) 를 최소화하기 위해 정렬 과정에서 렌즈를 깨끗하게 유지하여 최고의 이미지 해상도를 보장합니다. TWC-200A 설계에 통합된 듀얼 피드백 루프 (dual feedback-loop) 도구는 스테이지 위치와 정렬 중인 마스크 이미지를 동시에 조정할 수 있습니다. 이는 높은 수준의 위치 정확성 및 반복성을 보장하며, 고급 마이크로 일렉트로닉 (microelectronic) 장치 생산에 대한 정확한 다중 레벨 정렬 요구 사항을 제공합니다. HANTEX DEVELOPMENT LIMITED TWC-200A의 운영은 사용자 친화적입니다. 수동 입력 패널과 네트워크 명령 또는 DIOS 소프트웨어 프로그램을 모두 사용하여 제어할 수 있습니다. 빠른 필드 참조 메모리 (quick field reference memory) 및 추가 진공 자산과 같은 일부 추가 기능도 요청시 사용할 수 있습니다. TWC-200A는 최적의 정확성과 반복 성을 위해 설계된 사진 리소그래피 (photo-lithography) 응용 프로그램에 이상적입니다. 그것 은 여러 가지 크기 의 "포토마스크 '와" 기판' 과 호환 이 되며, 어떤 일반적 인 기판 재료 로든지 인쇄 할 수 있다. 또한 온도와 습도 범위가 확장되어 이미지 품질 (Image Quality) 이나 정렬 정밀도 (Alignment Precision) 를 손상시키지 않고 다양한 환경 조건에서 작동할 수 있습니다. 전반적으로 HANTEX DEVELOPMENT LIMITED TWC-200A는 효율적이고 정확한 작동을 보장하기 위해 다양한 기능을 갖춘 고급 마스크 정렬자입니다. 현대의 마이크로 일렉트로닉 제작 (microelectronic fabrication) 의 요구를 충족시켜 최고의 이미지 해상도와 위치 정확도를 제공하도록 설계되었습니다.