판매용 중고 EVG / EV GROUP 6200 #9239987

EVG/EV GROUP 6200은 최대 200mm 직경의 기판을 위해 설계된 마스크 정렬 자입니다. 이 최첨단 머신은 두 단계로 구성됩니다. 첫 번째 단계 (DI (direct imaging)) 는 기판에 패턴이 있는 정렬 표시를 만들 수 있습니다. 이러한 정렬 표시는 기본 이미징 장비 (화면 평면 카메라 및 DMD (digital micromirror device) 포함) 를 사용하여 생성됩니다. 2 차 이미징 시스템은 CCD (Charged-Coupled Device) 카메라와 Actinic Light Source로 구성되며, 기계는 기판에서 패턴 정렬 마크를 감지하여 미리 정해진 오버레이 정확도에 정렬 할 수 있습니다. EVG 6200의 두 번째 단계는 photolithography 처리에 사용됩니다. 이 단계는 photolithography 기술을 사용하여 기판에 패턴을 만들 수 있습니다. 두 가지 구성 요소로 구성됩니다. 기판에 패턴화 된 정렬 표시를 노출시키는 데 사용되는 대형, 완전 자동화 노출 장치 (large fully-automated exposure unit) 와 고압 스프레이 머신 (high-pressure spray machine) 이 있어 광소시스트를 기판에 코팅할 수 있습니다. 노출 도구 (Exposure Tool) 에는 노출 및 처리 매개변수를 쉽게 제어할 수 있는 전용 사용자 인터페이스가 장착되어 있으며, 스프레이 에셋 (Spray Asset) 에는 Photoresist 레이어의 최적의 코팅이 가능한 사용자 정의 컨트롤이 있습니다. EV GROUP 6200은 사용자에게 뛰어난 정확성과 정확성을 제공하는 내장 기능을 제공합니다. 여기에는 미세 수준의 패턴 정렬 마크를 식별하는 데 사용되는 최첨단 이미지 인식 알고리즘 (state-of-the-art image recognition algorithm) 이 포함됩니다. 이 기계는 또한 정확한 온도 조절을 특징으로하여 정확하고 일관된 처리를 가능하게합니다. 또한 노출을 위해 매우 효율적이고 균일 한 광원을 갖추고 있습니다. 결론적으로, EVG/EVGroup 6200은 최대 200mm 직경의 기판을 위해 설계된 마스크 정렬 자입니다. 두 단계 가 갖추어져 있는데, 첫 단계 는 기판 에 "패턴 '으로 된 정렬" 마르크' 를 만들 수 있는 것 이고, 두 번째 단계 는 "포토리토그래피 '처리 에 사용 된다. 이 기계에는 사용자 친화적 인 인터페이스, 이미지 인식 알고리즘 (image recognition algorithm), 정확한 온도 제어 (temperate control), 고효율 광원 (Light Source) 등 사용자가 정확하고 정확하게 사용할 수 있는 다양한 기능이 장착되어 있습니다.