판매용 중고 EVG / EV GROUP 620 #9402233
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ID: 9402233
빈티지: 2004
Mask aligner
Plug type:
US 5 Nema L 21-30 Plug, Wire length 1.8m
Europe: CEE7 European plug
Japan US 5 NEMA L‐ 21-30 plug, wire length 1.8m
Tube slzes:
Compressed airi nitrogen and vacuum
Compressed air: 6 Barr (87 Psi). dried and filtered
701/h FIow rate
Nitrogen / Compressed air (Dried, cleaned):
501/h Flow rate
Vacuum: 850 mbar (640 Torr)
Power recuirements 400W
Voitage:
Japan system: 200 V, 50/60 Hz, Single phases, 3 Wire system
US System: 208 V, 50/60 Hz, Single phase, 3 Wire svstem
European system 230 V, 50/60 Hz, Single phase, 3 Wire system
2004 vintage.
EVG/EV GROUP 620은 반도체 장치의 웨이퍼 제작을 처리하도록 설계된 완전 자동화 된 마스크 정렬기 장비입니다. 업계 표준의 다양한 기판 및 노출 소스를 활용해 '대응 가능한' 정렬 결과를 제공합니다. 이 시스템은 1 미크론 이내의 반복 가능성으로 0.1 미크론의 해상도를 달성 할 수 있습니다. EVG 620의 고정밀 옵틱, 전동 웨이퍼 스테이지, 통합 소프트웨어는 노출 프로세스를 간단하고 효율적으로 설정하고 제어합니다. "타이너 '의 노출원 은 매우 효율적 이며, 이 장치 는 여러 가지 직업 을 빠르고 정확 하게 운영 할 수 있다. aligner 의 사용자 친화적 (user-friendly) 소프트웨어는 작업 설정 (job setup) 에 대한 능률적인 접근 방식을 가능하게 하며 각 작업의 진행 상황을 모니터링할 수 있습니다. 이 장치는 컴퓨터 제어 마스크 노출 기계, 전동 웨이퍼 스테이지, 전진 모터 드라이브 도구, 노출 램프 등 여러 구성 요소로 구성됩니다. 노출 램프는 짧은 파장 노출 표시등을 생성하여 최대 해상도와 반복 성 (repeatability) 을 보장하는 데 사용됩니다. 전동식 웨이퍼 스테이지는 웨이퍼 이동 및 노출 위치를 정확하게 제어하는 데 사용됩니다. 마지막으로, 통합 고급 모터 드라이브 (Advance Motor Drive) 자산을 통해 사용자는 노출 프로세스의 속도와 방향을 제어 할 수 있습니다. EV 그룹 620 (EV GROUP 620) 은 반도체 제조업체의 요구를 충족시켜 마스크 조정기/노출 작업을 위한 효율적이고 비용 효율적인 도구를 제공합니다. 이 모델의 직관적인 소프트웨어는 사용 편의성과 효율적인 작업 설정 (job setup) 을 보장하며, 운영자는 프로세스를 모니터링하고 높은 수준의 정확성과 정밀도를 유지할 수 있습니다. 알리그너 (Aligner) 의 견고한 구성과 자동화된 작동을 통해 안정적이고 빠른 속도 (Fast-Paced) 의 노출 장비를 찾는 사람들에게 이상적인 솔루션이 됩니다.
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