판매용 중고 EVG / EV GROUP 620 #9224786

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ID: 9224786
빈티지: 2006
Mask aligner Chuck, 4" (Soft & hard & vac contact) Chuck, 6" (Edge handling, proximity) Exposure light, Ø 6" Mask holder, 5"-7" Backside alignment Operating system: Windows XP 2006 vintage.
EVG/EV GROUP 620 시리즈 마스크 정렬기는 고도의 정밀 포토 마스크 정렬 및 석판 제작을 위해 설계된 고급 포토 리토 그래피 시스템입니다. 이 장비는 최소 온도 변이가있는 웨이퍼 (wafer) 수준에서 매우 정확한 이미지를 생성 할 수 있습니다. EVG 620은 프로세스 제어 및 도량형을 포함한 다양한 애플리케이션에 적합합니다. 일체형 LensScan 3D + Vision 시스템을 사용하여 디지털 카메라로 이미지를 캡처하고 고급 이미징 기능을 수행합니다. 이 이미징 기술은 매우 정확하며 최대 3.5 미크론 해상도를 제공합니다. 정렬 자는 서보 모터에 의해 구동되는 고정밀 스테이지를 가지며, 스테이지는 53mm x 53mm의 이동 범위를 커버하며 0.02mm 해상도로 25 ~ 4,000mm/s 사이로 이동할 수 있습니다. EV GROUP 620의 자동 정렬 속성은 안정적이고 강력합니다. 고해상도 정렬 정확도 0.7 ° m이며 초고해상도 9äs 패턴 정렬을 실행할 수 있습니다. 자동 정렬 기능에는 고급 오버레이 및 프로세스 제어 소프트웨어도 포함됩니다. 이 장치에는 또한 실시간으로 실행되는 독점적이고 매우 정확한 광학 왜곡 수정 모듈 (Optical Distortion Correction Module) 이 포함되어 있습니다. 이 모듈은 빔 제어 (beam control) 가 최고 수준의 구조 해결에 중요한 저항 프로세스와 호환됩니다. 620은 DRIE 및 ICP 에칭과 Cleans, Oxides, CMP 및 Dopants와 같은 화학 공정을 준수합니다. 단일 웨이퍼 마이크로 마스크 정렬 및 프로세스 제어, 멀티 마스크 스택 정렬이 가능합니다. EVG/EV GROUP 620 하드웨어는 운영 비용이 저렴하고 전송 시간이 단축되어 완벽하게 자동화됩니다. 이 기계에는 강력한 흑연 플랫폼과 "올인원" 기능을위한 5 인치 공정 챔버가 포함되어 있습니다. 또한 빠른 레시피 변환 및 유연한 클러스터 기능과 다중 사용자 작동을 위한 CD/CNS (옵션) 툴을 갖추고 있습니다. 결론적으로, EVG 620은 정확한 사진 해설법 및 프로세스 제어에 대한 모든 표준을 충족시키는 고도의 고급 마스크 정렬기 (advanced mask aligner) 입니다. 고급 이미징 기능, 신뢰성 있는 자동 정렬 속성, 견고한 하드웨어, 유연한 운영 기능을 통해, 다양한 구성 및 도량형 (metrology) 요구 사항을 충족할 수 있습니다.
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