판매용 중고 EVG / EV GROUP 620 #9144780

EVG/EV GROUP 620은 마스크, 웨이퍼 및 기판을 정확하고 정확하게 정렬하도록 설계된 고급 사진 석판 마스크 정렬기입니다. CMA (Computer-to-Mask Aligner) 는 최대 정확도와 정확도로 기판에 노출 마스크를 정렬 할 수 있도록 하는 CMA (Computer-to-Mask Aligner) 입니다. 이 시스템은 반도체 및 전자 부품의 경우 해상도 1m 인 스텐실 (stencil) 을 패턴 화 할 수 있습니다. EVG 620에는 기판을 정확하게 정렬하는 2 개의 스테퍼 모터 구동 XY 모션 플랫폼이 있습니다. 이 플랫폼은 노출 마스크를 보유한 모션 플랫폼 (Motion Platform) 을 구동하여 정확한 단위로 2 개의 축으로 이동할 수 있습니다. 이것 은 특정 한 "패턴 '이나" 디자인' 을 담고 있는 "마스크 '와 결합 하여, 낮은 오정렬 이나 변위 와 접촉 하지 않고 기판 이나" 웨이퍼' 를 옮길 수 있게 한다. EV GROUP 620은 사진 리소그래피 프로세스에 대한 정확한 정렬을 제공하는 것 외에도 자동 초점 기능도 있습니다. 자동 초점 (Autofocus) 을 사용하면 노출 과정이 시작되기 전에 기판을 정확하고 정확하게 스캔할 수 있습니다. 따라서 전체 프로세스가 최적의 방식으로 수행됩니다. 620 은 직관적이고 선명한 GUI (그래픽 사용자 인터페이스) 를 통해 손쉽게 작동하고 설치할 수 있습니다. 정확하고 신속한 포지셔닝이 가능합니다. 즉, 전체 사진 리소그래피 프로세스가 빠르고 원활하게 완료 될 수 있습니다. 또한, EVG/EV GROUP 620 은 모듈식으로 설계되었으며, 고객의 변화하는 요구 사항에 맞게 쉽게 업그레이드할 수 있습니다. 따라서 잠재 업그레이드를 유연하게 수행할 수 있습니다. 마지막으로, EVG 620 은 구성 기능이 뛰어나며 특정 애플리케이션에 맞게 맞춤형으로 구성할 수 있습니다. 고정밀도 정렬을 위한 것이든 섬세한 세부적인 작업이든, EV GROUP 620 은 각기 다른 고객 요구 사항에 따라 설치할 수 있습니다. 620은 고급형, 사진 석판화 마스크 정렬기로, 노출 마스크 및 기판을 정확하고 정확하게 정렬하고, 통합 자동 초점 시스템 (autofocus system) 과 명확한 그래픽 사용자 인터페이스를 제공합니다. 모듈식 (modular) 구성이 가능하며, 업그레이드 기능이 제공되어 원활한 운영 및 사용자 만족도를 극대화할 수 있습니다.