판매용 중고 EVG / EV GROUP 620 #293732724
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EVG/EV GROUP 620 마스크 정렬기는 마이크로 일렉트로닉 및 광전자 장치의 제작을 위해 설계된 정밀 석판 도구입니다. 이 도구를 사용하면 contact lithography를 사용하여 fine-line 및 ultra-fine-line 기능을 기판으로 정확하게 패턴화할 수 있습니다. EVG 620은 높은 수율과 정확도로 서브 미크론 기능을 생성 할 수 있습니다. EV GROUP 620에는 마스크 및 웨이퍼 스테이지, 1 개 또는 2 개의 이동식 미러, 독립적 인 초점, 노출 및 정렬 제어로 구성된 다양한 조명 장비가 있습니다. 이 기능을 통해 시스템은 350 nm에서 560 nm 사이의 광학 파장으로 기판을 노출 할 수 있습니다. 또한 소프트웨어 제어를 사용하여 장치를 구성하여 다양한 리소그래피 (lithography) 프로세스를 사용할 수 있습니다. 620은 내장된 레이저 모듈 덕분에 자동화된 정렬 기능과 통합됩니다. 이 기능은 마스크 정렬 (mask alignment) 과 오버레이 (overlay) 단계의 정확도를 크게 높여 프로세스 시간과 비용을 줄입니다. 마스크 알리그먼트 머신은 2 개의 레이저 다이오드 빔 (laser diode beam) 을 사용하여 석판 도구 내에서 포토 마스크 및 기판을 정확하게 정렬합니다. 주어진 형상의 정렬 정확도가 0.2 미크론보다 좋습니다. 또한 EVG/EV GROUP 620은 자동 패턴 생성 기능을 제공합니다. 정교한 소프트웨어를 활용하여, 사용자는 제조 공정의 각 레티클에 대해 매우 상세한 광학 스크립트를 생성할 수 있습니다. 이 소프트웨어를 사용하면 정확한 노출을 최적화하여 결함 발생을 최소화하고 샷-투-샷 (shot-to-shot) 변형을 최소화할 수 있습니다. EVG 620 은 고해상도 레티클, 미세 전자 장치 의 결함 감소, 박막 광전기 장치 등 여러 가지 산업 응용 분야 에 적합 하다. 정확도, 성능, 생산성 등 다양한 기능이 결합되어 있어 제조업체에게는 탁월한 선택입니다.
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