판매용 중고 ELS TECHNOLOGY ELS 106SA #9059476

ELS TECHNOLOGY ELS-106SA는 메모리 칩, 논리 장치, 박막 트랜지스터 (Thin-film Transistor) 와 같은 고품질 반도체 장치의 제작을 위한 컴팩트하고 사용하기 쉬운 마스크 정렬기입니다. ELS-106SA는 최대 5mm x 4mm의 스캔 면적을 통해 고해상도 포토 마스크 (photomask) 를 웨이퍼 표면 위로 정확하고 빠르게 정렬하고 전송하도록 설계되었습니다. ELS TECHNOLOGY ELS-106SA의 고급 광 정렬 장비는 모든 photomask 및 wafer 레이어의 피쳐 크기, 정렬 오류, 오버레이 정확도 및 프로세스 매개변수를 자동으로 감지합니다. ELS-106SA에는 포토 마스크 (photomask) 및 웨이퍼 레이어 (wafer layer) 에서 20nm 정확도의 모든 터미널 포인트를 자동으로 감지하는 매우 정교한 동력 정렬 시스템이 장착되어 있습니다. 또한 포토마스크 패턴을 웨이퍼에 매핑하기 위한 위치 설정 (position setting) 도 자동으로 제어됩니다. 정렬 장치 (Alignment Unit) 는 정확한 동적 오버레이 측정을 제공하는 내장 레이저 스캐터링 머신 (Scattering Machine) 에 의해 향상되어 아래의 필름 레이어에 대한 photomask 패턴을 정확하게 정렬 할 수 있습니다. ELS TECHNOLOGY ELS-106SA 는 또한 고효율 스테퍼 모터 (stepper motor) 를 장착하여 웨이퍼에 포토 마스크를 정확하게 배치합니다. 이 모터는 인덱서와 연결되어 있으며 ELS-106SA의 임베디드 마이크로 컨트롤러 도구로 구동되며, 정확한 나노 레벨 정렬을 제공합니다. ELS TECHNOLOGY ELS-106SA는 또한 자동 초점 기능 (auto-focus capability) 을 제공하여 사용자가 더 높은 해상도와 정확도로 노출을 최적화하는 동시에 강력한 성능을 제공합니다. 엘스 -106SA (ELS-106SA) 는 또한 온도 컨트롤러에 의해 조절되는 주변 온도 조절 환경을 갖추고 안정된 프로세스를 보장합니다. 이 추가 기능은 변형된 실리콘 기술 (Strained Silicon Technology) 과 같은 응용 분야에 중요한 포토 마스크 (Photomask) 가 낮아 근접성을 유지하도록 도와줍니다. ELS TECHNOLOGY ELS-106SA 는 독립형이지만, 다양한 테스트/프로세스 요구 사항에 맞게 개별적으로 구성할 수 있습니다. 플랫폼 중립 테스트 (platform neutral testing) 조건을 지원하며, 자동 결함 감지 및 photomask 최적화 기능을 위해 다른 시스템과 통합될 수 있습니다. ELS-106SA 는 또한 원격 액세스를 통해 자산 성능의 원격 모니터링 및 분석, 문제 해결을 지원합니다. 결론적으로, ELS TECHNOLOGY ELS-106SA는 강력하고 신뢰할 수있는 마스크 정렬기로, 다양한 반도체 장치에 고품질의 포토 마스크 (photomask) 를 제공 할 수 있습니다. 고급 자동 정렬 (auto-alignment) 및 자동 초점 (auto-focus) 기능은 탁월한 정확성과 반복성을 보장하는 반면, 온도 조절 쿼츠 요소는 고해상도 웨이퍼 처리에 필요한 안정성을 제공합니다. 원격 액세스 (Remote Access), 플랫폼 중립 (Platform Neutrality) 및 다른 시스템과의 통합과 같은 다른 기능은 그 효과를 더욱 높여줍니다.