판매용 중고 DNK MA-5501ML #9301975

DNK MA-5501ML은 DNK Instruments에서 생산 한 Mask Aligner 라인의 상단입니다. 반도체· 마이크로전자산업에서 사진식자술에 사용되며, 집적회로· 미소성분· 기타 다양한 제품을 대규모로 생산할 수 있다. IC 설계의 이미지를 포토 마스크 (photomask) 에 투영하여 설계를 웨이퍼로 정확하게 전송할 수 있습니다. MA-5501ML 은 완전 자동화된 툴로서, 전체 photolithography 프로세스를 완벽하게 자동화할 수 있습니다. DNK MA-5501ML에는 포토 마스크 및 웨이퍼를 매우 정확하게 정렬 할 수있는 APIS (Advanced Pattern Imaging System) 가 장착되어 있습니다. 또한 마이크로 포커스 스캐너 (Micro-Focus Scanner) 는 마이크로 구조의 가장 작은 기능을 인식하고 등록 할 수있는 고해상도 스캐닝 장치입니다. MA-5501ML의 가장 강력한 기능 중 하나는 SHRA (Super High-Resolution Alignment) 기술입니다. 이 기술은 정확도가 20 nm 미만인 매우 정확한 마스크를 생성 할 수 있습니다. 이 정밀도 수준은 매우 복잡한 회로와 컴포넌트 생산에 중요합니다. 또한, DNK MA-5501ML에는 통합 프로세스 제어 시스템이 있으며, 이를 통해 전체 리소그래피 프로세스를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 이를 통해 고품질 칩과 구성 요소의 일관된 생산이 보장됩니다. MA-5501ML은 고급, 정교한 IC의 대량 생산에서 양자 컴퓨팅 (Quantum Computing) 과 같은 신흥 기술의 생산에 이르기까지 다양한 응용 프로그램을 갖추고 있습니다. 첨단 기능 (Advanced Features) 과 고성능 (High Performance) 은 집적 회로 및 마이크로 컴포넌트의 대량 제조에 필수적인 도구이며 최첨단 제품을 신속하게 생산할 수 있습니다.