판매용 중고 CANON PLA 600 #293594861

CANON PLA 600은 photolithography 응용 프로그램에 사용하도록 설계된 마스크 정렬 자입니다. 이 제품은 종합적인 기능과 통합 도구를 갖춘 웨이퍼 프로세싱을 위한 반자동 (semi-automatic) 플랫폼입니다. 이 기능에는 정확한 패턴 포지셔닝 및 정렬을위한 높은 정밀 단계, 웨이퍼 분석을위한 통합 현미경, 최첨단 조명 및 프로그래밍 가능한 필터 시스템이 포함됩니다. 정렬기의 반자동 연산은 수동 (manual) 및 자동 (automated) 프로세싱에 모두 적합합니다. 기계의 상세한 통합은 샘플 (sample) 로딩으로 시작하여 처리된 웨이퍼 (wafer) 의 언로드로 끝나는 프로세스의 완전한 주기를 보장합니다. 주기 중간에는 사전 정렬, 노출, 데이터 분석, 사후 정렬, 언로드 등 다양한 프로세스가 있습니다. 기계는 시간당 최대 100 웨이퍼 (wafer) 의 속도로 다양한 작업을 수행 할 수 있습니다. 마스크 정렬기 (Mask Aligner) 의 핵심에는 최적화 된 광학 장비가 있으며, 이 장비는 고급 실시간 이미지 처리 시스템에서 지원됩니다. 표준 리소그래피 마스크, 간섭 유형, 이진, 접촉, 레이저 마스크 등 다양한 포토 마스크 (photomask) 를 처리 할 수있는 매우 다양한 장치입니다. 이 기계는 이진 리소그래피 응용 프로그램 (binary lithography applications) 에서도 사용될 수 있으며, 여기서 작은 피쳐의 검출과 관련된 복잡성에 대처할 수 있습니다. PLA 600 은 운영 및 유지 보수 용이성, 높은 정확성, 최고 성능, 저렴한 투자 비용 등 다양한 이점을 제공합니다. 주요 특징 중 하나는 혁신적인 마스크 패턴 인식 머신 (mask pattern recognition machine) 으로, 마스크 패턴 인식에 고급 알고리즘 라이브러리를 사용합니다. 이 중요한 기능은 탁월한 패턴 일치 기능으로 정렬 프로세스를 단순화합니다. 고급 기능 세트에는 매우 민감한 광원 및 디지털 투영 도구도 포함됩니다. 이러한 구성 요소는 뛰어난 감도와 해상도를 제공하여 고품질의 마이크로 구조 (micro-structure) 를 만들 수 있습니다. 또한, 기계에는 노출 용량, 노출 횟수와 같은 특정 매개 변수를 제어하는 인터페이스가 제공됩니다. 또한 고급 패턴 생성을 위해 레이저 소스가 장착되어 있습니다. 마지막으로, 캐논 플라 600 (CANON PLA 600) 은 환경이 안전한지, 그리고 기계가 올바르게 작동하는지 확인하는 다양한 안전 기능을 제공합니다. 여기에는 자동 연동 자산, 공기 정화 모델 및 자동 진단이 포함됩니다. 기계는 다른 주변 장비와 통합되어 완전한 석판 처리 장비를 형성 할 수 있습니다.