판매용 중고 CANON PLA 600 FA #154145

ID: 154145
웨이퍼 크기: 6"
Mask aligner, 6".
CANON PLA 600 FA는 정확한 리소그래피 응용 프로그램을 위해 설계된 고급 자동 마스크 정렬 자입니다. 반도체 장치 제작, 나노 기술, 미세 전기 기계 시스템 (MEMS) 등 다양한 응용 프로그램을 수행하는 데 적합합니다. CANON PLA-600FA에는 자동화된 3D 정렬 장비와 여러 레이저 소스가 장착되어 있어 여러 레이어의 정확하고 정확한 정렬이 가능합니다. PLA 600FA의 3 차원 (3D) 정렬 시스템을 사용하면 마스크를 정확하게 배치 할 수 있으므로 다양한 재료에 대한 정확한 석판 연산을 위한 신뢰할 수있는 도구입니다. 3D 정렬을 사용하면 패턴과 기판을 모두 정확하게 정렬할 수 있습니다. 이 장치는 또한 오정 확률을 줄이고 정렬 정확도 5 (m) 를 향상시킵니다. 캐논 플라 600FA (CANON PLA 600FA) 에는 다양한 재료에서 패턴 작업 수행에 유용한 다양한 레이저 소스가 장착되어 있습니다. 이러한 레이저 소스에는 엑시머 레이저, 근적외선 다이오드 레이저 및 초경량 펄스 레이저가 포함됩니다. 엑시머 레이저는 주로 가시 광선에 노출 될 수없는 가공 재료 (예: 반도체 장치의 SiO2 계층) 에 사용됩니다. 근적외선 다이오드 레이저는 레이저 트리밍, 패턴, 에칭 작업을위한 강력한 도구이며, 초적외선 펄스 레이저 (ultrashort pulse laser) 는 미세 패턴 조작에 적합합니다. 이 기계는 또한 접촉 리소그래피 (Contact Lithography) 및 근접 리소그래피 (Proximity Lithography) 를 포함하여 다양한 응용 프로그램에 사용될 수있는 다양한 석판 공정을 제공합니다. 접촉 리소그래피 (Contact Lithography) 프로세스는 MEMS에 사용되는 패턴과 같은 작은 패턴을 생성하는 데 이상적이며, 근접 리소그래피 프로세스는 대규모 리소그래피 작업에 이상적입니다. 또한, PLA 600 FA는 노출 용량을 제어 할 수 있으며 최소 선 너비는 5 um 입니다. 마지막으로, PLA-600FA는 사용하기 쉽고 작동하기 때문에 소규모 및 대규모 리소그래피 (lithography) 어플리케이션에 적합합니다. 또한 이 도구 에는 "챔버 '," 스테핑 모터', "소프트웨어 '와 같은 부드러운 조작 을 가능 하게 하기 위해 필요 한 모든 구성 요소 가 함께 사용 되며, 이 도구 는 또한 사용자 가 쉽게 조작 할 수 있다. 또한, 에셋은 원격 컨트롤러 (remote controller) 와 함께 제공되며, 사용자는 모델의 매개변수를 원격으로 제어할 수 있습니다.
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