판매용 중고 CANON PLA 501 FA #9328963

CANON PLA 501 FA는 발광 다이오드 (LED), 레이저 및 광전자 (PV) 와 같은 나노 미터 규모의 광전자 장치 제작 응용 프로그램에 사용하도록 설계된 마스크 정렬자입니다. 광도마스크 (photomask) 의 고해상도 패턴 (high-resolution pattern) 에 정확하게 정렬하고 유기물 (organic material) 을 정렬하여 원하는 모양에 고정시키는 데 사용될 수있는 다용도 기계입니다. 캐논 플라-501FA (CANON PLA-501FA) 는 기계적 (mechanical) 구성요소와 광학적 (optical) 구성요소의 조합을 활용하여 정렬 및 오버레이 프로세스의 정확도와 정밀도를 향상시킵니다. 여기에는 기판에서 마스크를 정렬하기위한 고정밀, 모터 구동 x-y 단계, 포토 마스크 (photomask) 의 가장자리 및 오버레이를 감지하기위한 레이저 다이오드 광원이 포함됩니다. CCD 이미징 장치를 사용하면 연산자가 쉽게 정렬, 오버레이, 에칭 작업을 수행할 수 있습니다. 이미징 기능 외에도, 머신에는 한 쌍의 진공 척 (vacuum chucks) 이 장착되어 있으며, 이 연산자는 x-y 스테이지에서 기판을 확보 할 수 있으며, 조정 가능한 높이 자유 공간 정렬 (free-space alignment) 패키지로 photomask의 정확한 위치를 지정할 수 있습니다. PLA 501FA는 0.3 m 스캐너를 통해 고해상도 패턴을 제공하며 1.5 m/s에서 스캔 할 수 있습니다. 또한 최대 1,000X까지 확대/축소할 수 있는 광학 확대/축소 (optical zoom) 를 통해 정확한 정렬 및 에칭 작업을 수행할 수 있습니다. 마지막으로, 컴퓨터에는 보정 (calibration) 및 테스트 차트 (test chart) 가 장착되어 있어 시스템 작동이 정확하고 올바른 해상도로 작동할 수 있습니다. PLA-501FA는 광전자 장치 구성 응용 프로그램에 적합한 선택 사항입니다. 정밀도, 속도, 정확성의 조합은 특히 나노미터 스케일 (nanometer-scale) 장치를 만드는 까다로운 프로세스에 적합합니다. 그것의 다재다능성은 또한 마이크로-에칭 (micro-etching) 과 유기 및 무기 물질의 제작 (fabrication) 과 같은 다양한 다른 응용 분야에도 사용될 수 있습니다.