판매용 중고 CANON PLA 501 FA #293763589

CANON PLA 501 FA는 12 미크론의 기능 레이어 크기와 12.5 나노 미터의 스텝 해상도를 갖는 풀 필드 레이저 보조 정렬 (FA) 마스크 정렬 자입니다. 이 마스크 정렬기는 고해상도 사진 분석과 초정밀 제작에 적합합니다. CANON PLA-501FA 마스크 정렬기의 주요 응용 프로그램 중 하나는 IC (Integrated Circuit) 제조입니다. 반도체 리소그래피 (lithography) 공정에 광범위하게 사용되는데, 넓은 작업 영역, 풀 필드 집중력, 고밀도 기능으로 고성능 IC 제작이 용이하기 때문입니다. PLA 501FA는 25 포인트 X-Y 스테이지, 6 개의 활성 정렬 패턴 위치 및 2 개의 마스크 체인저를 갖추고 있습니다. 이를 통해 병렬 정렬 및 패턴화 기능, 처리량 대폭 향상, 전반적인 생산성 향상 등의 효과를 얻을 수 있습니다. 마스크 정렬기의 12 미크론 스팟 크기는 초고해상도와 정밀도를 보장하는 반면, 12.5 나노미터 스텝 해상도는 고급 응용 프로그램 작업에 필요한 정확성과 반복 성을 제공합니다. PLA-501 FA는 내장형 추적 패턴 분석기 (Trace Pattern Analyzer) 와 그래픽 사용자 인터페이스 (Graphical User Interface) 등 여러 가지 강력한 기능을 갖춘 강력하고 안정적인 시스템입니다. 추적 패턴 분석기 (trace pattern analyzer) 를 사용하면 패턴 영역을 시각화할 수 있고 사용자 인터페이스는 작업을 단순화할 수 있습니다. 이 시스템은 사진 전류가 높아, 어떠한 왜곡도 없이 고용량의 포토 마스크 (photomask) 노출이 가능합니다. 따라서 잘못 정렬과 왜곡이 최소화되면서 우수한 결과를 얻을 수 있습니다. CANON PLA-501 FA에는 OPE (On-Axis Digital Protection Element) Aligner (옵션) 가 추가로 장착되어 있어 IC 설계에서 웨이퍼 패턴으로 데이터를 전송할 때 정확한 디지털 보호 요소 (OPE) 정렬이 가능합니다. 즉, 소스 및 타겟 데이터를 완벽하게 전송할 수 있는 반면, 사진 해설법 (photolithography) 프로세스 전반에 걸쳐 정확한 데이터를 유지할 수 있습니다. PLA-501FA 는 다양한 포토마스크 (photomask) 와 호환되며, 다양한 포토리스토그래피 (photolithography) 응용 프로그램을 처리할 수 있습니다. 또한 지능형 (Intelligent) 정렬 기능을 통해 수동 정렬에 소요되는 시간과 노력을 줄일 수 있습니다. 전체적으로 CANON PLA 501FA는 고해상도와 정확성을 위해 설계되었으며, 이는 리소그래피 어플리케이션에 이상적인 선택입니다. 강력한 기능, 강력한 기능, 다양한 기능을 통해 모든 IC 구성 요구 사항을 충족할 수 있는 안정적이고 효율성이 높은 마스크 조정기를 제공합니다.