판매용 중고 CANON PLA 501 F #9301426

CANON PLA 501 F는 마이크로 리토 그래피 프로세스를 위해 설계된 자동 마스크 정렬 자입니다. 마이크론 (sub-micron) 해상도의 전동 핸드스테이지, 초저압 접촉 바이어스 및 디지털 피드백 루프 (digital feedback loop) 와 같은 고밀도 기능을 사용하여 마스크 및 웨이퍼의 최적 초점과 정렬을 달성합니다. 따라서 마스크 설정에 소요되는 시간을 대폭 단축하고, 비용 및 처리 시간 (turnaround time) 을 크게 줄일 수 있습니다. 또한 내장형 광원, 클린 룸 (Clean Room) 수집 장비, 마스크 및 웨이퍼를 정확하게 정렬하는 디지털 이미징 시스템 등이 있습니다. CANON PLA-501F의 고급 광학 디자인은 240 ~ 330nm 사이의 파장에서 강렬한 조명을 제공하여 마스크에서 작은 기능을 정확하게 감지 할 수 있습니다. 일련의 정밀 렌즈 및 수차 테스터와 함께 강력한 전자 빔 (electron beam) 기술은 조명 마스크의 선명도를 더욱 향상시킵니다. 이 시스템에는 또한 작은 잘못된 정렬 (misalignment) 과 프로세스 변형 (process variations) 이라도 높은 정확성과 정밀도를 유지하기 위해 정교한 센서와 제어 메커니즘이 포함되어 있습니다. PLA 501F는 축 당 0.001 미크론의 자동 마스크 배치 오류와 함께 뛰어난 wafer-to-mask 정확도를 제공하도록 설계되었습니다. 이를 통해 완성 된 마이크로 리토 그래피 제품은 최고 품질입니다. 이 기계의 해상도는 1nm 이상이며, 최대 노출 범위는 8 인치 사각형이며, 간격은 20mm 이하입니다. 또한 최대 8 초의 자동 인쇄 속도 (자동 인쇄 속도), 화학 노출 감소를위한 EPC 클리너 기능, 실수로 마스크를 재현하는 내장 레이저 프린터 (내장형) 등 다양한 기능이 포함되어 있습니다. PLA 501 F는 프레임 내 안전 경고 장치 (In-Frame Safety Warning Unit) 및 터치 감지 제어판 (Touch-Sensitive Control Panel) 과 같은 다양한 안전 기능을 제공하여 정렬 절차 중 실수를 방지합니다. 그 에 더하여, 기계 는 여러 가지 다른 도구 및 장비 들 (예: 금속제, 저항제 "프린터 ', 오한" 로울러' 등) 과 통합 될 수 있으며, 가능 한 가장 포괄적 인 소석판 공정 을 제공 할 수 있다.