판매용 중고 CANON PLA 501 F #9198627

CANON PLA 501 F는 photolithography 응용 프로그램을 위해 반도체 산업에 사용되는 최첨단 마스크 정렬 자입니다. 정밀 마이크로 스테핑으로 단계 및 반복 이미징을 사용하여 서브 미크론 해상도를 제공합니다. 501F의 슬로우 모션 작업 테이블 (slow-motion work table) 을 사용하면 반도체 웨이퍼 위에 포토 마스크를 정확하게 배치하고 정렬할 수 있습니다. 최적 스캐닝 정확성과 반복 성을 보장하는 6 축 동작 제어 시스템 (6축) 이 장착되어 있습니다. 또한 고속 셔터 프로젝터를 사용하면 photomask를 빠르고 정확하게 배치할 수 있습니다. 501F는 광범위한 노출 범위를 가지고 있습니다 (따라서 다양한 소스 웨이퍼 및 포토 마스크 지원). 또한 단계 및 반복 이미징 (전체 필드 이미지 포함) 과 가변 길이 직렬 이미징 (소형, 고밀도 필드 이미지) 을 모두 지원합니다. 마스크 정렬기는 또한 포토 마스크 및 웨이퍼의 정확한 위치를 지정하기 위해 높은 정밀 레티큘러 정렬이 가능합니다. 캐논 플라-501F (CANON PLA-501F) 는 자동 진공 연동 (automatic vacuum interlock) 을 포함하여 다양한 안전 기능이 내장되어 있어 마스크 정렬 과정에서 운영자가 안전해질 수 있습니다. 또한, 디바이스에는 여러 개의 응급 스위치 (Emergency Switch) 가 장착되어 있어, 비상시 운영자가 시스템 전원을 차단할 수 있습니다. 또한 501F에는 마스크 레이아웃 (mask layout) 파일을 만들고 수정할 수 있는 사용자에게 친숙한 인터페이스가 있습니다. 직관적인 소프트웨어 프로그램을 통해 운영자는 필드 크기, 노출 수준, 포커스 범위 (focus range) 와 같은 사용자 정의 마스크 매개변수를 빠르고 쉽게 정의할 수 있습니다. 이를 통해 성능을 최적화하고 생산성을 향상시킬 수 있습니다. 전체적으로, PLA 501F 는 최첨단 마스크 정렬기로, 다양한 기능을 제공하여 반도체 업계에 이상적인 선택이 됩니다. 스캐닝 정확도, 반복성, 다양한 안전 기능을 제공합니다. 직관적인 소프트웨어 프로그램은 운영을 단순화하고 생산성을 높이는 데 도움이됩니다. 궁극적으로 501F는 photolithography 응용 프로그램에 최적화된 솔루션을 제공합니다.