판매용 중고 CANON PLA 501 F #293824950

CANON PLA 501 F는 마스크 정렬 기이며, 이는 반도체 집적 회로 생산에 사용되는 고급 도구입니다. 이 도구는 미니어처 디자인을 만드는 데 사용되는 공정 인 포토리토그래피 (photolithography) 의 그림에 맞춘 여러 피쳐 (Number of features) 가 있는 고급 고밀도 도구입니다. 캐논 플라-501F 마스크 정렬기 (CANON PLA-501F mask aligner) 는 광원과 프레넬 (Fresnel) 렌즈를 사용하여 이미지를 서피스로 전송하여 웨이퍼에 패턴을 투영하는 정확한 방법을 제공합니다. PLA 501F 는 반도체 집적회로 제작에 유용하게 사용할 수 있는 다양한 기능을 갖추고 있습니다. 웨이퍼에 마스크를 더 잘 노출시키기 위해 4 인치 작업 필드와 기울기 마스크 홀더 (0 ~ 5 도) 가 있습니다. 이 기계는 또한 고정밀 (high-precision) 단계를 가지며, 이를 통해 기판에 패턴을 적절히 정렬하기 위해 정렬자가 웨이퍼 (또는 마스크) 를 정확하게 이동할 수 있습니다. PLA 501 F의 정렬 정확도는 작업 분야의 30% 범위에서 2.4 m에 이릅니다. 기계 자체는 반복성과 내구성을 위해 설계되었으며, 최소한의 유지 관리를 요청합니다. 마스크 정렬 자에는 최대 4 ° m 해상도의 접촉 이미지 센서가 포함되어 있습니다. 또한, 가장 까다로운 노출 요건을 충족시키기 위해 최대 10,000 셔터 스텝/초의 가변 셔터 속도가 제공됩니다. 또한, 고정밀 스테핑 모터 드라이브 시스템 및 진공 테이블 (vacuum table) 이 정렬의 품질과 정확성에 기여합니다. 고성능 마스크 정렬기 인 PLA-501F는 대부분의 photolithography 응용 프로그램을 달성하기 위해 조정되었습니다. "웨이퍼 '와" 마스크' 사이 의 정확 한 정렬 과 그 "마스크 '는 각 공정 의 필요 에 맞추어 조정 할 수 있는 여러 가지 기능 을 제공 한다. 고급 기능과 고정밀 단계를 갖춘 캐논 플라 501F (CANON PLA 501F) 는 미니어처 설계를 위한 정교한 툴로서, 다양한 어플리케이션에 적합한 고급 집적회로를 만들 수 있습니다.