판매용 중고 CANON PLA 500 FA #9105738

CANON PLA 500 FA는 photolithography, photomask 및 thin film 처리와 같은 응용 프로그램을 위해 설계된 완전 자동 마스크 정렬 자입니다. 이 마스크 조정기 (Mask Aligner) 에는 반도체 제작 업계에서 신뢰할 수 있는 선택이 가능한 여러 기능이 장착되어 있습니다. CANON PLA 500FA의 가장 주목할만한 특징은 높은 정확도입니다. 0.1 미크론 미만의 정밀도로 작동하는 2 개의 자동 정렬 단계가 장착되어 있습니다. 이렇게 하면 "마스크 '를" 웨이퍼' 와 같은 기판 에 정확 하게 맞출 수 있다. 또한 "마스크 '" 타이너' 에는 독특 한 독점적 인 자동 "웨이퍼 '취급 장치 가 갖추어져 있다. 이 시스템은 기계의 정확한 웨이퍼 배치 및 정렬에 대한 정확한 지침을 제공합니다. 이 장치는 또한 웨이퍼에 오염 물질이 완전히 없도록 보장합니다. 그것 은 "웨이퍼 그리퍼 '와 통합 되어" 웨이퍼' 를 쉽게 선택 할 수 있다. PLA 500 FA에는 특허받은 광학 정렬 장치 (Optical Alignment Machine) 가 있어 마스크와 기판을 정확하게 등록 할 수 있습니다. 광학 도구는 정확한 정확성을 위해 디지털 컨트롤러에 연결됩니다. 이 자산은 또한 정확한 마스킹 및 리소그래피 (lithography) 를 위해 로우 프로파일 (low-profile) 패턴으로 특수 마스크를 사용할 수 있습니다. 마스크 정렬기를 모든 청소기 환경과 쉽게 통합할 수 있습니다. 고효율 입자 여과 모델로 설계되어 입자 제어 개선을 위해 3 단계의 클린 룸 공기 여과 (cleanroom air filtration) 를 제공합니다. 그 장비 에는 또한 "머신 '을 해로운" 스트레이' 전하 로부터 보호 하고 기계 의 신뢰성 을 향상 시키기 위한 항정적 "코우팅 '이 있다. PLA 500FA는 정확한 기판 마스크 정렬을 위한 신뢰할 수 있는 마스크 정렬기이며, 사진 해설법, 마스킹, 박막 처리 등의 애플리케이션에 적합합니다. 독특한 웨이퍼 처리 시스템 (Wafer Handling System) 과 결합된 높은 정밀도와 현대 반도체 제작 응용 분야에 적합한 효율적인 입자 여과 장치 (Particle Filtration Unit) 가 특징입니다.