판매용 중고 CANON MPA 600 Super #9179483

CANON MPA 600 Super는 CANON에서 생산 한 고정밀 고속 마스크 정렬기입니다. 이 장치는 주로 다양한 마스크 검사, 포토 마스크 노출 및 광학 노출 처리 (예: 광학 노출 처리 및 반도체 장치 제조를위한 광학 정렬) 에 사용됩니다. CANON MPA600SUPER의 기본 구조는 광학 적층 포지셔너, 마스터 슬레이브 구성, 조명 장비 및 냉각 시스템의 4 가지 주요 부분으로 구성됩니다. 4 인치에서 12 인치 범위의 다양한 웨이퍼 크기로 사용할 수 있습니다. MPA-600SUPER의 광학 라미네이트 포지셔너 (optically laminated positioner) 는 빛, 먼지, 긁힘 및 기타 오염 물질에 노출 된 프로세스를위한 웨이퍼를 단단히 고정하도록 설계되었습니다. 이 제품은 광학 장착 단계 (Optical Mounting Stage) 를 갖추고 있으며, 반도체 장치 제작에 필요한 까다로운 광학 석판화 (Optical Lithography) 를 위해 정확하고 정확하게 정렬 할 수 있습니다. 장치의 마스터 슬레이브 (master-slave) 구성은 광학 적층 포지셔너의 움직임을 제어하는 데 사용됩니다. 포토 마스크 교환 작업 중에도 웨이퍼를 매우 정확하게 찾을 수 있도록 설계된 고급 기계식 제어 장치 (Advanced Mechanical Control Unit) 입니다. 이 정밀도는 프로세스 단계의 정확성과 반복성을 보장합니다. CANON MPA-600SUPER에 설치된 조명기는 고출력 제논 램프와 DUV Deuterium 광원으로 구성됩니다. 광원은 포토 마스크 (photomask) 의 전체 영역에 균일하고 재현 가능한 노출 강도를 제공하며, 여러 수준의 해상도를 갖는 복잡한 리소그래피 패턴 (lithography pattern) 에도 이상적입니다. 이 장치에는 작동 범위 내 플라즈마 챔버 (plasma chamber) 의 온도를 유지하기 위해 냉각 도구 (cooling tool) 가 통합되어 있습니다. 이는 노출 프로세스 전반에 걸쳐 안정적인 프로세스 조건을 제공하는 데 도움이됩니다. 전반적으로 MPA600SUPER는 마스크 검사, photomask 노출 및 photolithography 프로세스를 위해 안정적인 플랫폼을 제공하는 통합 자산입니다. 반도체 제작 및 테스트 프로세스에 이상적인 솔루션입니다.