판매용 중고 CANON MPA 600 FA #9269099

CANON MPA 600 FA는 photolithography 프로세스에 사용하도록 설계된 매우 정확하고 신뢰할 수있는 마스크 정렬 자입니다. 반도체 업계에서 널리 쓰이는 장치로, 집적회로 (integrated circuit) 와 기타 관련 전자 부품의 생산에 자주 사용된다. CANON MPA600FA에는 특수 광학 장비가 장착되어 있습니다. 이 시스템에는 매우 정확하고 일관된 리소그래피 패턴을 제공하기 위해 극도의 EUV (Ultra-Violet) 조명원과 광학이 포함됩니다. MPA-600FA는 또한 매우 정확한 컴퓨터 제어 스테퍼 모터 (computer-controlled stepper motor) 를 포함하며, 이는 노출 과정에서 웨이퍼를 가로 질러 마스크의 정밀한 정렬 및 전진을 보장합니다. MPA-600 FA는 정교한 광학 장치로 광범위한 리소그래피 패턴을 생성 할 수 있습니다. 최대 1 미크론의 노출 정확도로 하위 파장 피쳐 크기를 생성 할 수있는 용량이 있습니다. 이러한 고급 수준의 정확성을 통해 CANON MPA600-FA는 전통적인 포토 리토 그래피 (photolithography) 기술로는 불가능한 해상도와 세부 수준을 가진 구조를 생성 할 수 있습니다. MPA600FA 는 또한 다양한 운영 환경에서 매우 정확한 노출 결과를 제공할 수 있는 다양한 기능을 제공합니다 (영문). 이 장치에는 자동 노출 제어 시스템 (Auto-Exposure Control Machine) 이 있으며, 이는 생산 프로세스의 요구 사항에 맞게 노출 수준을 조정할 수 있습니다. 또한 자동 초점 도구 (auto-focus tool) 를 사용하여 노출 중에 마스크가 웨이퍼에 단단히 정렬되도록 합니다. 캐논 MPA-600FA (CANON MPA-600FA) 는 내부 메모리에 최대 7 가지 유형의 마스크를 보관하여 각 운영 실행에 필요한 노출 및 마스크 정보를 저장할 수 있습니다. 또한 CANON MPA-600 FA 에는 효율적이고 안전한 생산 프로세스를 보장하는 다양한 하이엔드 안전 기능이 포함되어 있습니다. 여기에는 긴급 상황의 경우 장치를 즉시 끄는 자동 차단 (automatic shut-off) 에셋이 포함됩니다. 또한 고해상도 카메라 (카메라) 가 내장되어 있어 노출 및 마스크 정렬 프로세스를 모니터링할 수 있습니다. 전반적으로 MPA 600FA는 일관되고 정밀한 결과를 제공하는, 강력하고 안정적인 마스크 정렬 장치입니다. 반도체 (반도체) 업계의 생산요건에 이상적인 선택이 되는 다양한 기능과 안전성 (Safety) 기능을 갖추고 있다.