판매용 중고 CANON MPA 600 FA #9060105
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판매
ID: 9060105
Projection aligner, 6"
Slit: 1.6mm
Includes:
Illumination power check meter, 7”
Focus tilt mask, 7”
DR Mask
Projection system:
Projection mirror:
Total reflection UM02
Magnification: 1x
Image size:
Stationary: Arcuate image 150 mm (L) x 1.6 to 2.0 mm (W), with radius of 95 mm
Scanning: Φ6 (150 mm) Over entire surface, excluding that under (3) disk claws
Magnification: 1x
Effective F number: Fe 3.5
Wavelengths used:
Printing (UV): 365 nm (i-line), 405 nm (h-line) & 436 nm (g-line)
Manual alignment: E-line (546 nm) & orange light
Auto alignment: 633 nm (He-Ne Gas laser)
Illuminator:
Light source:
USHIO ELECTRIC USHY-2002MA 2 kW Super-high-pressure mercury lamp
Illumination range:
Length: 150 mm
Width: 1.6 to 2.0 mm
Radius: 95 mm
Illumination uniformity: Within ±3%
Effective light source: σ = 0.7, σ = 0.6, σ = 0.5
Exposure:
Scanning speed: Φ5" (Φ125 mm)
Setting range: 5.0 - 150.0 sec (for 5" wafer)
Setting units: Uniform 0.1 sec increments
Scanning mechanism:
Feed / Control methods
Closed loop method with DC servo motor drive
Scanning speed: 5.0 to 150.0 sec (25 mm/sec-0.83 mm/sec) for 5" wafer
Carriage position setting:
Setting range: -75 mm to 75 mm
Increment: 0.01 mm
Setting accuracy: ±10 /µm
Alignment scope:
Objective lens: 10x, NA 0.2
Eyepiece: 10x, 15x
Erector lens: 1x, 2x, 3x
Low-magnification lens: 0.3x
Distance between objective lenses:
30 to 109.6 mm (Traveling simultaneously on both sides of center position)
Setting range of objective lens distance: 30.00 to 109.6 mm in 0.02 mm increments
Focusing travel (both fields of view): ±2 mm
Auto alignment:
Laser beam scanning
Light source: He-Ne Gas laser (633 nm), polarized type 5 mW
Dedicated patterns are used for auto alignment
Offset control: Read/write possible in range of 0 to 7.9 /µm
Tolerance setting: 0.25 (0.15) /µm, 0.5µm, 1 µm
Auto alignment time: Within 7 sec
Observation in auto alignment mode possible
Auto feeder:
Auto/manual switching: Automatic / Manual wafer feed selectable
Feed method: Belt & auto hand
Wafer size: 4"-6"
Applicable carrier: FLUOROWARE Type carrier: Standard
Capacity: 25 wafers
Pitch: 3/16"
Projection system focusing:
Focus adjustment: ±1.5 mm
Travel amount obtained by one rotation of knob: 10 µm
Power supply:
MPA-600FA: 200 VAC, 3Φ, 6 kVA, 50/60 Hz
Air supply unit: 200 VAC, 3Φ, 8 kVA, 50/60 Hz.
CANON MPA 600 FA는 웨이퍼 레벨 포장을 위해 CANON에서 개발 한 고정밀 마스크 정렬 자입니다. 이 제품은 다양한 기능과 기능을 제공하는 모든 기능을 갖춘 기기 (full-featured instrument) 로, 다양한 장치 제조 어플리케이션에서 사용할 수 있습니다. 캐논 MPA600FA (CANON MPA600FA) 는 적외선을 사용하는 고해상도 투영 정렬 장비를 사용하여 마스크 패턴을 웨이퍼 표면에 정확하게 투영하고 정렬합니다. 이 시스템은 미세 위치 조정 (Fine Position Adjustment) 을 허용하며, 마스크 패턴을 웨이퍼 서피스에 정확하고 반복적으로 정렬할 수 있습니다. MPA-600FA에는 고출력 레이저 어닐링 장치 (Laser Annealing Unit) 가 장착되어 있어 다양한 용도로 웨이퍼 (Wafer) 의 선택된 영역을 열적으로 처리 할 수 있습니다. 이 기계는 전체 웨이퍼 (wafer) 에 균일 한 열을 생성 할 수 있으며, 온도 관련 문제로 인해 표면 형성이 균일하고 장치 실패를 방지합니다. MPA 600 FA에는 맞춤형 메탈 마스크 홀더 (holder) 가 장착되어 있어 정렬하는 동안 메탈 마스크를 웨이퍼에 정확하게 배치하고 부착할 수 있습니다. 또한 자동 옵티컬 스테퍼 (Optical Stepper) 를 통해 정렬 프로세스의 속도와 정밀도를 크게 높일 수 있습니다. 또한 CANON MPA 600FA (Automated Control Tool) 를 통해 악기를 쉽게 작동하고 관리할 수 있습니다. 이 에셋에는 사용자에게 친숙한 그래픽 인터페이스 (Graphical Interface) 가 포함되어 있어, 사용자가 이전 교육 없이 매개변수 선택이나 마스크 제어 등 다양한 작업을 수행할 수 있습니다. 캐논 MPA-600 FA (CANON MPA-600 FA) 는 또한 비정상적인 작동의 경우 자동 차단 모델 (automatic-off model) 과 먼지와 파편이 악기에 들어가지 못하도록 먼지 필터를 내장하여 사용자 및 장치를 모두 보호하는 다양한 안전 기능을 제공합니다. 캐논 MPA-600FA (CANON MPA-600FA) 는 고정밀 마스크 정렬 기기가 필요한 반도체 장치 제조업체에 적합한 선택입니다. 강력한 기능, 정확한 정렬 장비, 고급 안전 기능으로, MPA-600 FA는 웨이퍼 레벨 (wafer-level) 패키징 어플리케이션에서 최적의 결과를 얻을 수 있는 이상적인 도구입니다.
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