판매용 중고 CANON MPA 500FA #9033676

CANON MPA 500FA Mask Aligner는 반도체 장치 제작, 평면 패널 디스플레이 제조, 고급 패키징 등 다양한 어플리케이션을 위해 설계된 고성능 포토리스토그래픽 (photolithographic) 노출 및 웨이퍼 처리 장비입니다. CANON MPA-500FA에는 CANON 인증 고출력, 고출력 엑시머 레이저 소스가 장착되어 있어 정확한 패턴 및 구조의 노출, 반도체 웨이퍼의 처리량이 높습니다. 또한 정렬자 (aligner) 는 매우 정밀한 정렬 및 오버레이 (overlay) 기능을 가지고 있으므로 1äm보다 정확한 여러 레이어를 정렬할 수 있습니다. MPA 500 FA는 또한 프로세스 속도 및 신뢰성을 위해 동급 최고의 성능을 제공하며, 최대 노출 시간은 10 초 이하입니다. 또한 MPA 500FA 의 고급 하드웨어/소프트웨어 (Advanced Hardware and Software) 를 사용하면 특정 애플리케이션의 조정 Optic 및 노출 매개변수를 사용자 정의하여 탁월한 유연성을 얻을 수 있습니다. MPA-500FA 는 최고 품질의 소재로 구성되며, 보다 뛰어난 정밀도, 안정성 및 안정성을 제공합니다. 이 시스템은 정밀 전동식 Z- 스테이지 (정확도 0.2jm), 서로 다른 레이어 사이의 빠른 패턴 정렬이 가능한 빠른 정렬 장치, 그리고 신뢰성이 높고 반복 가능한 이미지 전송 머신 (image transfer machine) 을 사용합니다. 또한, CANON MPA 500 FA의 고급 방진 (anti-vibration) 설계는 모든 환경 또는 작동 상태에서 안정적이고 안정적인 성능을 보장합니다. 캐논 MPA 500FA (CANON MPA 500FA) 의 고급 안전 기능은 또한 노출 실패나 기타 문제의 가능성을 줄이고 운영자 및 제품의 안전을 보장합니다. CANON MPA-500FA는 또한 고해상도 optic 및 자동 교정 도구를 통해 뛰어난 성능을 제공합니다. 이 에셋을 사용하면 focus, exposure, image composition 및 기타 매개변수를 빠르게 조정하여 사용 가능한 최고 해상도, 정밀도, 처리량을 얻을 수 있습니다. 또한 MPA 500 FA는 사용이 간편한 세련된 인터페이스를 제공하며, 사용이 간편한 GUI (그래픽 사용자 인터페이스) 를 통해 작업을 단순하고 직관적으로 수행할 수 있습니다. 마지막으로, MPA 500FA 역시 구성 능력이 뛰어나므로, 사용자는 모델의 여러 측면을 사용자 정의하여 특정 애플리케이션을 원활하게 사용할 수 있습니다.