판매용 중고 CANON MPA 500 #9275353

CANON MPA 500 Mask Aligner는 정밀 마이크로 전자 부품을 제조하는 데 사용되는 산업용 석판화 장비입니다. 사용 가능한 가장 정확하고 다양한 마스크 정렬기로, 최고 수준의 해상도, 정확도, 성능을 제공합니다. MPA 500 은 고급 멀티 포인트 정렬 감지 시스템 (Multi-Point Alignment Detection System) 을 갖추고 있으며, 와퍼를 통해 마스크의 최적의 위치를 보장하기 위해 다양한 고정밀도 측정 툴이 사전 구성되어 있습니다. 이 장치는 최대 8 인치 직경의 웨이퍼와 최대 2 개의 다른 마스크 크기를 지원할 수 있습니다. 캐논 MPA 500 (CANON MPA 500) 은 큰 마스크를 처리 할 때에도 마스크에 대한 안전하고 일관된 그립을 제공하는 매우 효율적인 진공 기능을 갖추고 있습니다. 이 기계는 웨이퍼 위에 마스크를 정확하게 배치하기 위해 내장된 레이저 정렬 (laser alignment) 기능을 갖추고 있습니다. MPA 500은 고정밀 정렬 기능 외에도 고해상도 UV (UV Exposure) 및 빠른 고속 마스크 개발을 제공합니다. 캐논 MPA 500 (CANON MPA 500) 은 오버레이 공차를 정확하게 조정하여 까다로운 마이크로 일렉트로닉스 어플리케이션에 적합합니다. MPA 500 의 고급 설계 (Advanced Design) 는 노출 매개변수를 정확하게 제어하여 정확한 노출 매개변수를 쉽게 얻을 수 있도록 합니다. 또한 풀 동종 버스트 스테이지 컨트롤 (full homogenous burst stage control), 정밀한 최대 노출 타이머 (maximent exposure timer) 및 정밀한 정렬을위한 멀티 포인트 스캐닝 도구 (multipoint scanning tool) 를 포함하여 정확하고 정밀한 프로세스 제어를 위해 다양한 관련 기능을 갖추고 있습니다. 또한, 에셋은 퓨징 유리, 열 이미징, 실리콘 에칭 등 다양한 프로세스 재료와의 호환성을 제공합니다. CANON MPA 500은 고급 결함 검사 기능도 제공합니다. 결함 목록에는 1000개 이상의 미리 정의된 결함 플래그 (defect flag) 가 포함되어 있으며, 사용자의 요구에 맞게 광범위하게 사용자 정의할 수 있습니다. 이 모델에는 고급 웨이퍼 (Wafer) 웹 분석 모듈 (Web Analysis Module) 과 웨이퍼의 결함을 감지하고 식별하는 정렬 장비도 포함되어 있습니다. 마운트된 상태와 마운트 해제된 상태 모두에서 결함을 분석할 수 있습니다. 안전성 측면에서 MPA 500에는 키 잠금 시스템 (key-lock system), 정적 방지 커튼 (anti-static curtain), 빛 및 압력 센서, 연기 필터 장치 등 다양한 안전 기능이 장착되어 있습니다. 또한 먼지 필터, 접지 장애 인터럽터, 펄스 센서 (pulse sensor) 등 장비 손상 위험을 줄이기 위한 다양한 구성 요소가 포함되어 있습니다. 전반적으로 CANON MPA 500은 마이크로 일렉트로닉스 어플리케이션에 가장 적합한 결과를 제공 할 수있는 능력이 있습니다.