판매용 중고 CANON MPA 500 Fab #9226312

캐논 MPA 500 Fab (CANON MPA 500 Fab) 은 고밀도 반도체 장치와 같은 마이크로 일렉트로닉 부품에 대한 제조 공정에서 고급 사진 리토그래피 기능을 제공하도록 설계된 고성능, 신뢰할 수있는 마스크 정렬기입니다. 혁신적인 Substrate Sucker 장비를 통합하여 정밀 기판 처리를 가능하게하며, 매우 정확하고, 반복 가능하며, 매우 정확한 사진 해설을 가능하게합니다. 또한 설계 엔벌로프 내에서 높은 수준의 반복 가능성, 공차 (repeatability), 정렬 (Alignment) 정밀도 (Accuracy) 로 여러 레이어 피쳐를 적용할 수 있습니다. CANON MPA 500FAB에 사용되는 프로젝터 렌즈는 고급 옵틱스 솔루션으로, 풀 필드 (full field) 및 전폭 (edge of field) 이미징을 통한 정렬 정확도에 탁월한 화질을 제공합니다. 또한 자외선에서 적외선까지 광원으로 스펙트럼 영상을 수행 할 수 있습니다. 다른 파장으로 제공되는 CPLD (Continuous Pulse Laser Diode) 및 DUV (Deep Ultra Violet) 기술이 장치에 통합되어 동적 노출 제어 유연성을 제공합니다. MPA-500FAB는 고정밀 광학 현미경과 최신 고속 데이터 획득 및 이미지 처리 기술 (낮은 입자 수준 오염 제어) 을 갖추고 있습니다. 활성 공중 영상 기능 (Active Aerial Imaging Feature) 은 등록 프로세스 속도와 정확도가 향상되어 중요한 프로세스 형상을 정확하게 정렬합니다. 또한, 고급 자동 초점 기계, ABFR 광원 및 S/W는 도구의 전반적인 성능을 향상시켜 높은 성능과 안정성을 제공합니다. CANON MPA-500FAB에 채택된 CAM (Computer-Assisted Maintenance) 기술을 통해 신속하고 간편한 유지 관리, 유지 관리 알림, 예측 유지 관리 기능을 통해 적절한 운영을 보장하고 운영 중 단기적인 장애로 인한 심각한 피해를 피할 수 있습니다. 또한 데이터베이스 관리를 위해 안전하고 최적화된 자동 액세스 자산을 제공합니다. 이 모델은 또한 진공 흡수를 완료하고 한 손으로 작업 할 수있는 새로운 기판 빨판 (Substrate Sucker) 장비를 제공하여 기판 처리 공정의 최대 안정성과 정확성을 보장합니다. 이렇게 하면 처리량 (throughput) 은 극대화되고, 정확성과 반복성은 보장되며, 배치 (placement) 및 리프트 오프 (lift-off) 단계 모두에 이상적인 환경이 됩니다. 또한 MPA 500FAB 는 광범위한 프로세스 기능을 제공하며, 프로세스 최적화를 위해 특허를 획득한 프로세스 옵션을 제공합니다. 도구에는 기판 이동을 매우 정확하게 계산하는 SSM (Secondary Source Method) 및 ME (Match Engine) 와 마스크 교환 중 시간 손실을 크게 최소화하는 OS (Optimized Sequence) 가 포함됩니다. 마지막으로, 설계 유연성을 위해 피쳐 크기, 마스크 레이아웃, 프로세스 시퀀스를 거의 제한없이 사용자 정의할 수 있습니다.