판매용 중고 ESI 5200 #293735009

ESI (Enhanced Short Inpulse) ESI 5200은 1990 년대 후반에 만들어진 짧은 펄스주기 레이저 장비입니다. 이 장치는 6 ns의 펄스 지속 시간, 5 kHz의 펄스 반복 속도 및 펄스 에너지 지터를 갖는 최대 60 mJ의 출력 에너지를 갖는 ND: YAG (네오디뮴 도핑 이트륨 알루미늄 가넷) 레이저입니다. 10% 미만의 펄스 에너지 지터. 레이저 시스템은 박막 제거 및 태양 전지 연구 목적으로 특별히 설계되었습니다. 레이저에는 수냉식 플래시 램프 펌프 기술이 있습니다. 이 장치의 플래시 램프에는 IR (적외선) 복사를 제거하여 출력 광원을 최대화하기 위해 특수 필터 (special filter) 가 장착되었습니다. 이 기계는 광 다이오드 (photodiode) 기반 피드백 (feedback) 도구를 사용하여 원하는 범위의 광도를 조절하고 자유로운 정권에서 작동합니다. "레이저 '는 출력 주파수 의 낮은 열" 드리프트' 로 장기간 작동 할 수 있었다. 피드백 (feedback) 에셋을 사용하여 플래시 램프의 에너지를 지속적으로 확인하고 제어함으로써 장치의 주파수 안정성 (Frequency Stability) 을 보장했다. 레이저에는 전용 로컬 제어판, 광학 안전 스위치, 과전압 보호 회로 (over-voltage protection circuit) 와 같은 여러 가지 안전 기능이 장착되었습니다. 온보드 컴퓨터는 레이저의 성능 매개 변수를 모니터링하고 오작동 (오작동) 이나 비정상적인 작업 (abnormal operation) 에 대한 경고 메시지를 표시했습니다. 플래시 램프용 레이저 제어 및 전원 공급 장치가 컴퓨터를 통해 제공되었습니다. 레이저 장치에는 자동 빔 제어 모델도 장착되었습니다. 이 자동 장비는 레이저 빔 초점, 발산 및 안정화를 제어 할 수있었습니다. 이 기능을 통해 다양한 레이저 컴포넌트 (laser component) 와 광학 (optics) 을 사용하여 최대 수준의 빔 강도를 달성 할 수있었습니다. 이를 통해 사용자는 5200으로 복잡한 레이저 머시닝을 수행 할 수있었습니다. 이 장치에는 정밀 빔 (beam) 제어를위한 광학 감쇠 장치 (optical attenuator) 와 레이저 빔 (laser beam) 의 다른 영역에서 강도 프로파일을 측정하기위한 레이저 빔 프로파일러 (laser beam profiler) 가 장착되었습니다. ESI 5200은 수냉식 (water-cooled) 기술 덕분에 유지 보수 요구 사항이 낮은 안정성이 뛰어난 레이저 장치였습니다. 이 시스템은 긴 서비스 수명을 가졌으며, 금속 절단 및 재료 처리 응용 분야에 널리 사용되었습니다. 오늘날에도 일부 실험실과 응용 분야에서 사용됩니다.