판매용 중고 CYMER XLA 140 #9296982

CYMER XLA 140은 반도체 제조를 위해 리소그래피 프로세스에 사용되는 광원입니다. 40 Hz에서 최대 140 mJ (140 mJ) 의 강력한 레이저 펄스를 생산할 수 있으며, 이는 고급 마이크로 제조 응용 분야에 이상적입니다. CYMER XLA140은 Nd: YAG 및 KrF 활성 미디어를 결합한 독특한 광학 디자인의 솔리드 스테이트, 하이브리드, 엑시머 스타일 레이저입니다. 이 시스템은 작동이 쉽고, 유연성이 뛰어나고, 사용자 친화적 인 (user friendly) 아키텍처로 설계되었으며, 특정 어플리케이션 요구 사항에 맞게 최대 (maximum) 펄스 에너지를 조정할 수 있습니다. 펄스 에너지 제어 범위는 5-140 mJ이며, 서브 피코 초 지속 기간과 펄스-펄스 안정성은 5% 이내입니다. 이 시스템은 또한 고해상도 공간 진폭 필터 (spatial amplitude filter) 와 제로 지터 (0 jitter) 로 펄스 트리거를 제공하는 고급 전원 공급 장치 설계를 갖추고 있습니다. XLA-140은 중저전력 리소그래피 요구를 지원하도록 설계되었습니다. 방사선 빔 매개변수의 효율적이고 낮은 위험 전/후 컨디셔닝을 위해 설계된 고정밀 수냉식 빔 라인 (high-precision water-cooled beam line) 이 있습니다. 이로써 정합성 있는 빔 (beam) 품질을 확보하고 운영 비용을 절감하고 열 로딩 (thermal loading) 의 가능성을 절감할 수 있습니다. 레이저는 최대 50,000 W/cm2 펄스 강도의 출력 전력으로 총 4kW의 전력을 가진 단일 엑시머 레이저 (excimer laser) 에서 작동합니다. 전력 요구 사항은 표준 208 VAC, 20 amp 입력을 통해 쉽게 충족됩니다. XLA140의 크기는 13.9 "(H) x 40.7" (W) x 52 "(L) 인 소형 공간도 있습니다. 정상 (Normal) 및 반전 (Inverted) 방향 마운팅이 가능하며 높은 수준의 진동 격리가 특징입니다. CYMER XLA-140 은 설치 편의성, 고급 기능, TCO (총소유비용) 절감 등을 통해 다양한 정밀 마이크로패브라이션 요구 사항을 충족하는 최적의 솔루션입니다.