판매용 중고 CYMER ELS 5610 #9389758

CYMER ELS 5610 (CYMER ELS 5610) 은 박막의 고정밀 레이저 처리 및 단단하고 부서지기 쉬운 표면을 포함한 다양한 재료를 위해 설계된 최첨단 엑시머 레이저 장비입니다. 이 제품은 집적 회로 제작, 직접 레이저 텍스처링 및 기타 고급 광자 기반 제조 프로세스에 이상적인 솔루션입니다. 최대 10 J의 뛰어난 빔 품질과 펄스 에너지 (pulse energy) 를 갖춘 ELS 5610은 경쟁력 있는 공명 주파수 (2kHz) 와 소형의 인체 공학적 설계로 공간 효율을 극대화합니다. CYMER ELS 5610에는 SLM (single longitudinal mode) 및 SM (supermode) 의 두 가지 표준 엑시머 레이저 방전 유형이 장착되어 있습니다. SLM 방전 모드는 투명 재료 처리에 적합하며, SM 방전 모드는 불투명 재료 처리에 사용할 수 있습니다. 고급 트리거 아키텍처 (Advanced Trigger Architecture) 는 커스텀 파이어 레이트 (Custom Fire Rate) 와 동급의 모든 엑시머 레이저 플랫폼의 안정성과 반복성을 쏘는 최고의 샷을 지원합니다. ELS 5610 의 내장 외부 동굴 흡수 장치 (external cavity absorber) 는 외부 흡수 장치가 필요하지 않으며 강력한 강화 성능을 제공합니다. 레이저는 수동 전환기, electro-optic 셔터, acousto-optic 셔터 등 다양한 셔터 유형으로 구성 할 수 있습니다. 또한 통합 빔 균질기, 빠른 기계식 셔터, 광학 감쇠기, 빔 확장기, 디플렉션 미러 등 다양한 빔 프로세서로 구성할 수 있습니다. 다양한 광 구성 요소를 통해 애플리케이션 요구 사항을 충족할 수 있습니다. CYMER ELS 5610은 최대 160mm까지 스캔 할 수 있으며, 통합 모션 제어 시스템은 모든 유형의 2D 또는 3D 응용 프로그램을 지원합니다. 내장형 냉각 장치 (내장) 와 고급 전원 제어 장치 (고급 전원 제어 장치) 는 광학에 열적 손상 없이 안정적인 작동을 보장합니다. 통합 전력 모니터링 도구를 통해 정확한 빔 프로파일링 (beam profiling) 을 구현할 수 있으며, 고정밀도, 구조적으로 건전한 통합 마이크로 머치닝을 위한 장기적인 안정성을 제공합니다. 고급 광전자 응용 프로그램을 수행하기 위해 ELS 5610은 레이저 의료 영상 시스템, 레이저 프로젝터, 3D 이미징 시스템 등 다수의 외부 광학과 통합 될 수 있습니다. 고급 데이터 획득 자산 (Advanced Data Acquisition Asset) 은 실시간 모니터링 및 데이터 로깅을 지원하며, 펄스 너비 변조 (Pulse-Width Modulation) 및 기타 고급 기능으로 모델을 업그레이드할 수 있습니다. CYMER ELS 5610 은 기존 운영 프로세스에 쉽게 통합할 수 있으며, 저용량 생산에 적합합니다. 이 고효율 장비는 정밀 제조 어플리케이션을 위한 안정적이고 비용 효율적인 솔루션입니다. 높은 정밀도와 고품질 (High Beam Quality) 을 필요로 하는 많은 어플리케이션에 대해 정확하고 안정적인 레이저 처리를 제공합니다.