판매용 중고 CYMER ELS 5400 #9383528

CYMER ELS 5400 (CYMER ELS 5400) 은 248nm의 파장에서 작동하는 듀얼 램프 엑시머 레이저로, 산업 환경에서 사용하도록 설계되었습니다. 레이저는 동급에서 가장 발전된 것으로, 최대 40 W/cm2의 전력 밀도를 자랑하며, 극도로 균일 한 펄스 너비, 에너지, 주파수를 제공합니다. 이로 인해 반도체 제조, 박막 증착 (Thin Film Deposition) 과 같은 다양한 애플리케이션에 대한 정확도가 높아지고 제어가 향상됩니다. "레이저 '는 5 개 의 축" 스테이지' 를 갖추고 있어서 매우 높은 정확도 와 균일 함 과 더불어 넓은 거리 를 빠르게 뛰어넘는 능력 을 제공 한다. 또한 5 위치 회절 격자 모듈 (diffraction grating module) 이 장착되어 있어 정밀도를 더욱 향상시키고 대상 표면을 정확하게 프로파일링할 수 있습니다. "레이저 '는 또한 고도 의 적응" 셰이핑' 을 공급 받으며, 훨씬 더 조밀 한 초점 을 이루며, "레이저 '가 필요 로 하는" 에너지' 의 양 을 감소 시키고 "레이저 '가 용도 한" 애플리케이션' 을 위한 최상 의 모양 을 생성 하도록 한다. 또한, CYMER ELS-5400 에는 진공 챔버 (vacuum chamber) 가 장착되어 있어, 가스 흐름을 제어하여 레이저의 작업 능력을 최대한 효율적으로 최적화합니다. ELS 5400 역시 반복 속도가 매우 높아 초당 최대 1000 개의 펄스 (puls per second) 를 빠른 속도로 처리할 수 있습니다. "레이저 '는 매우 안정 된" 펄스' 를 제공 해 주는데, 이것 은 박막 증착, 반도체 제조 와 같은 응용 에 필수적 인, 공정 을 반복 하고 신뢰 할 수 있게 해 준다. 이 안정 펄스 (stable pulse) 는 광학 검사 (optical inspection) 와 같은 응용 분야에도 매우 중요하며, 필요에 따라 레이저 프로파일에 사용되는 올바른 매개변수를 사용할 수 있습니다. 엘스-5400 (ELS-5400) 은 레이저 응용프로그램에 매우 높은 정밀도, 정확도, 균일성을 요구하는 산업을 위한 귀중한 도구입니다. 이 제품은 다양한 기능과 기능을 갖추고 있어, 오늘날 시장에서 가장 발전된 엑시머 레이저 (excimer laser) 중 하나입니다.