판매용 중고 CYMER ELS 5400 #293794151

CYMER ELS 5400은 고급 레이저 마이크로 처리 응용 프로그램을 위해 특별히 설계된 엑시머 레이저입니다. 이 레이저 시스템은 반도체 소자 제조, 연구 개발, 기타 유사 산업 응용프로그램에 사용할 수있는 가장 진보된 실시간 3D 프로파일링 레이저 중 하나입니다. 5400은 248 nm에서 1.5 kW의 매우 높은 평균 전력, 뛰어난 안정성, 뛰어난 빔 포인팅 정확성을 갖추고 있으며, 작은 기능의 정확한 에칭 및 드릴링을 허용합니다. 이 "레이저 '는 또한 광범위 한 동작 파장 과" 펄스' "에너지 '를 공급 할 수 있다. CYMER ELS-5400 (CYMER ELS-5400) 은 안정성, 유연성, 다기능 툴로서 확장성 및 신뢰성에 초점을 맞춰 설계되었습니다. 이 아키텍처는 통합, 서비스 용이성, 유지 관리를 용이하게 하며, 다양한 산업 요구 사항에 적응할 수 있습니다. 레이저 정렬 및 프로세스 문제 해결이 가능한 사용자를 돕기 위해 5400 (5400) 에는 조정 가능한 개별 진단 (Discrete Diagnostics) 및 원격 모니터링 기능이 내장되어 있습니다. 5400은 고주파, RF 흥분, 환형 플래시 램프 배열로 구동되며, 248 nm의 짧은 파장에서 매우 높은 전력으로 즉각적인 레이저 에너지를 제공합니다. 이 레이저는 최대 30kHz의 풀 펄스 에너지 (full pulse energy) 를 출력할 수 있으며, 최신 펄스 셰이핑 기술을 활용하여 뛰어난 에너지 안정성과 짧은 펄스 길이를 제공합니다. 컴팩트한 설치 공간과 고급 (Advanced) Optic을 통해 5400 은 다양한 크기의 구조를 보다 정밀하고 효율적으로 처리할 수 있습니다. 5400의 고급 빔 제어 기능에는 활성 LBD (Low Beam Density) 기술, 머시닝 환경에 따라 EQM을 자동으로 조정하는 고유 기능, 절삭 속도 최적화, 머시닝 오류 감소, 광학 구성 요소 수명 증가 등이 있습니다. 또한 ELS 5400 에는 진공 챔버 (Vacuum Chamber) 와 인클로저가 장착되어 있어 높은 습도와 먼지에 민감한 환경에서 작동하기에 적합합니다. 전반적으로 ELS-5400은 동일하지 않은 정밀도와 다재다능한 차세대 엑시머 레이저입니다. 디바이스 제작에서 특성화와 테스트에 이르기까지, 5400 은 가장 까다로운 애플리케이션에도 적합합니다.