판매용 중고 CYMER ELS 5300 #9260804

CYMER ELS 5300은 반도체 처리를 위해 적당한 대용량 생산 레이저입니다. 차세대 공진기 광학을 활용하여 강력하고 안정적인 레이저 소스를 제공합니다. CYMER ELS-5300은 다양한 레이저 매개 변수를 제공하여 최대 5kW의 출력 전력, 최대 8kHz의 펄스 주파수를 허용하며, 심해 UV 리소그래피 및 대용량 처리 어플리케이션에 적합합니다. ELS 5300 에는 통합 광섬유 배송 장비, 고급 냉각실, 신뢰성 있는 다축 동작 시스템 등 다양한 고급 (advanced) 기능이 내장되어 있습니다. 이렇게 하면 "레이저 '의 공간 및 시간적 특성 과 동기" 레이저' 펄스 를 정밀 하게 제어 할 수 있다. ELS-5300의 중심에는 고급 공진기 광학 장치 (Advanced Resonator Optics) 가 있으며, 최적화된 거울과 고품질 진공실을 통합 한 특허 듀얼 스테이지 디자인으로 구성되어 있습니다. 이렇게 하면 에너지 손실이 감소하여 빔 (beam) 특성이 향상되어 처리 속도가 빨라지고 처리량이 향상됩니다. CYMER ELS 5300에는 에칭 (etching) 또는 선택적 증착 (selective deposition) 과 같은 응용 목적으로 가스 유형을 빠르게 전환 할 수 있도록 설계된 새로운 가스 충전 장치가 장착되어 있습니다. 이 기계 를 사용 하여 광학 보조기 (예: 액정 편광 장치) 를 도입 하여 "빔 '의 특성 을 미세 하게 제어 할 수 있다. 레이저 (Laser) 는 다중 단계 생산 프로세스의 일부로 통합되도록 설계되었으며, 다른 반도체 처리 시스템 (Semiconductor Processing System) 및 장비에 연결하기위한 표준 인터페이스를 갖추고 있습니다. 여기에는 전원 공급 장치 (Power Supply) 및 모니터링 시스템 (Monitoring System) 과 레이저 출력의 품질을 기록하고 모니터링하는 소프트웨어 제품군이 포함됩니다. 궁극적으로 CYMER ELS-5300 레이저는 정확한 대용량 반도체 생산에 이상적인 선택입니다. 이중축 공진기 광학 장치 (optic-axis resonator optics) 와 가스칠 (gas-fill) 공구 (tool) 와 같은 고유한 기능의 조합은 전력 및 정밀도의 최적의 균형을 통해 빠르고 안정적인 처리를 가능하게 합니다.