판매용 중고 CYMER 5400 #9237253

CYMER ® CYMER 5400은 CYMER, Inc.에서 개발 한 견고한 고정밀 레이저입니다. 이 "레이저 '장비 는 반도체" 칩' 을 25 년 이상 제조 하는 데 활용 되어 수많은 특징 과 장점 을 제공 해 왔다. 이 제품은 다양한 시나리오에서 뛰어난 성능을 제공합니다. 즉, 강력한 성능, 빠른 펄스 폭, 정확한 제어 기능 등입니다. 이 레이저 시스템은 100kW의 최고 전력 (Peak Power) 을 제공 할 수 있으며, 일반 조명 모드를 사용하는 경우 460nm (450nm) 만큼 높은 종횡비 구조를 효율적으로 처리 할 수 있습니다. 전반적으로, 사용자 친화적 인 인체 공학 (ergonomic) 기능으로 인해이 장치는 업계에서 가장 높은 수준의 정밀도를 제공합니다. 이 레이저는 최소 직경 150nm ~ 200nm, 선폭 75nm ~ 100nm (최대 속도 70Mbps) 의 고정밀 비아와 참호를 생산할 수 있습니다. 또한 레이저의 성능은 CYMER RAC (Rapid Adaptive Control) 기계를 사용하여 향상되었습니다. 이 고급 제어 도구 (Advanced Control Tool) 를 사용하면 파장, 빔 모양, 전원, 펄스 지속 시간, 작동 반복 속도, 빔을 기판에 정렬하는 등 레이저 에셋과 관련된 대부분의 매개변수를 제어할 수 있습니다. 이 모델은 또한 고유한 "Active-Shield" 기술을 통해 처리 시간을 최대 32% 단축할 수 있습니다. 이 기술은 기판의 열 손상을 줄임으로써 회로의 손상을 방지합니다. 또한, 레이저는 매우 안정적이고, 정확하며, 다용도로 설계되었으며, 다양한 제조 환경에서 일관된 고품질 결과를 제공합니다. 5400 레이저는 수요가 많은, 높은, 저용량 어플리케이션에 이상적인 플랫폼입니다. 이 장비는 고출력 변조 펄스 레이저 (modulated pulsed laser) 의 모든 장점과 최첨단 제어 기술, 인체 공학적 설계 (ergonomic design) 를 결합하여 매우 정밀하게 보다 빠르고 정확하게 처리 할 수 있습니다. CYMER 5400 은 박막 증착 (thin film deposition) 이나 에칭 (etching) 및 직접 리소그래피 (direct lithography) 를 위한 최적의 솔루션을 제공합니다.