판매용 중고 US STONEWARE 75 3RM #93375

US STONEWARE 75 3RM 이온 밀링 장비는 단일 심도 및 다중 심도 운영 모드 모두에서 정밀 제어 표면 에칭 통신에 사용되는 고급 반도체 제조 도구입니다. 이온 밀링 시스템은 두 가지 기본 부품으로 구성됩니다. 첫 번째는 전력이며, 여기에는 프로그래밍 가능한 주파수 범위가 5 MHz ~ 75 MHz, 최대 출력은 75 kW의 유도 소스가 포함됩니다. 두 번째 부분은 이온 분배 장치 (ion distribution unit) 로, 고압 아르곤 가스, 조리개 세트 및 9 방향 전원 공급 장치로 채워진 강철 인클로저로 구성됩니다. Stoneware 75 3RM은 12면 가변 깊이 밀링 (variable depth milling) 프로세스를 사용하여 원하는 효과에 더 깊거나 얕은 에칭 프로세스를 최적화 할 수 있습니다. 용접 2 피스 회전 헤드가 있으며, 조정 가능한 척 속도가 있으며, 최대 에칭 깊이 4.25 mm에 도달 할 수 있습니다. 이 도구에는 가스 유량이 분당 0.5-3.0 리터 (L/min) 인 외부 가스 인젝터와 6 x 100mm 조리개 플레이트가 있습니다. 밀링 플레이트는 조정 가능하며, 최적의 에칭 깊이를 달성하기 위해 가변 깊이 제어가 가능합니다. 가장 좋은 이온 밀링 프로세스를 달성하려면, 사용자는 척 (chuck) 을 가로 지르는 가스, 압력, 전류의 올바른 혼합을 사용해야합니다. 자산은 이온 밀링 프로세스 동안 Ar, Xe 및 Ar 및 Xe 가스의 혼합물을 제공 할 수 있습니다. 이 "가스 '들 은 인클로저 에 주입 되어" 척' 에 도달 할 때 까지 조리개 를 통과 한다. 생산량을 극대화하기 위해 Stoneware US STONEWARE 75 3RM에는 에칭 프로세스 중 기계 고장 또는 손상 위험을 줄이는 데 도움이되는 여러 안전 기능이 포함되어 있습니다. 예를 들어, 모델은 과전류 140 A의 자동 전원 차단과 2 단계, 낮은 전류 정확도 장비를 가지고 있습니다. 이 시스템에는 또한 단락 회로 결함, 가스 누출, 진공 압력을 감지 할 수있는 센서 세트가 포함되어 있습니다. 전체적으로 75 개의 3RM 이온 밀링 장치 (ion milling unit) 는 에칭 프로세스를위한 고급적이고 비용 효율적인 반도체 제조 도구이며, 다른 방법으로 비교할 수없는 속도와 정확도로 우수한 품질의 에칭 표면 (etched surface) 기능을 제공합니다. 이 기계는 고객이 미국 스톤웨어 (STONEWARE) 로부터 기대할 수있는 안정적인 결과를 제공하도록 설계되었습니다.