판매용 중고 SEIKO INSTRUMENTS SMI 2050 #9228821

ID: 9228821
빈티지: 2006
Focused Ion Beam (FIB) system 2006 vintage.
SEIKO INSTRUMENTS SMI 2050은 고급 반도체 웨이퍼의 정확한 얇고 평면 화하도록 설계된 고품질 이온 밀링 장비입니다. 이 SMI 시리즈 모델은 이온 밀링 (ion milling) 과 레이저 보조 반응성 에칭 (reactive etching) 의 독특한 조합을 제공하여 반도체 제조 시설에 귀중한 도구입니다. SMI 2050의 고급 이온 밀링 (advanced ion milling) 기술은 비활성 가스 원자 (inert gas atoms) 를 높은 에너지 속도로 사용하여 박막 웨이퍼 표면에서 매우 얇은 재료 층을 제거합니다. 이 프로세스는 열 손상 없이 매우 정확한 피쳐를 생성하는 데 사용될 수 있으므로 웨이퍼 (wafer) 를 정확하게 얇게 (thinning), 평면 배치 (planarization) 및 프로파일 (profile) 수정에 유용합니다. 또한, 고급 레이저 보조 반응성 에칭 (advanced laser-assisted reactive etching) 기술은 자외선 레이저 펄스를 사용하여 매우 정확한 피쳐를 생성하며, 기판 표면에서 기존 피쳐를 정확하게 수정할 수 있습니다. SEIKO INSTRUMENTS SMI 2050 이온 밀링 시스템은 몇 가지 혁신적인 구성 요소로 구성되어 있습니다. 디지털 제어 단위 (Digital Control Unit) 를 사용하면 밀링 프로세스를 매우 정확하게 제어할 수 있으며, 이를 통해 사용자는 제거할 재료의 두께를 선택하고 밀링 프로세스 동안 정확한 레이아웃 프로파일을 유지할 수 있습니다. 또한 장치의 오버 헤드 엔드스테이션 (Overhead Endstation) 을 사용하면 밀링 프로세스 중에 표본에 쉽게 액세스 할 수 있습니다. 다른 구성 요소로는 자동 소스 교환, 펄스 전원 공급 장치 및 cleanroom 호환 추출/전송 시스템이 있습니다. SMI 2050 (SMI 2050) 은 연동형 안전 커버 (Safety Cover) 와 특수 통합 소프트웨어 패키지 (Milling Process) 를 통해 사용자에게 가장 안전하고 편리하게 사용할 수 있도록 설계되었습니다. 또한, 안전 소프트웨어를 사용하면 이온 밀링 프로세스를 실시간으로 조정할 수 있으며, 이를 통해 정밀도가 높은 결과를 얻을 수 있습니다. 게다가, 이 도구는 쉽게 유지 및 서비스되도록 설계되었으며, 고급 자산 모니터링 (Advanced Asset Monitoring) 기능은 시스템 상태에 대한 즉각적인 피드백을 제공합니다. 전반적으로, SEIKO INSTRUMENTS SMI 2050은 반도체 제조 시설에 사용할 수있는 이상적인 기능을 제공합니다. 첨단 이온 밀링 (ion milling) 과 레이저 보조 에칭 (eching) 기술을 통해 고급 반도체 웨이퍼의 정확한 얇고 평면 화에 효과적입니다. 또한, 사용자 친화적 인 디자인과 다양한 안전 기능을 통해 SMI 2050 운영 시 편의성과 자신감을 더하십시오. 이 제품은 고성능 이온 밀링 (ion milling) 애플리케이션을 위한 안정적이고 효과적인 솔루션으로,
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