판매용 중고 PHILIPS / FEI Strata DB235 #9202056

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ID: 9202056
Dual beam FIB / SEM System E-Beam imaging resolution: <2.5 nm I-Beam imaging resolution: ~ 7 nm (3) Gas injection systems (GIS) for material deposition: Pt, carbon, selective carbon mill E-Gun type: Sirion SFEG I-Gun type: Magnum (2) Resolution modes: Search mode UHR (Ultra high resolution) Mode with immersion lens Detectors & imaging modes: SED (Everhart thornley) (ETD) Through the lens detector (TLD) TLD-S (Secondary electron imaging) TLD-B (Back scattered electron imaging) TLD-C (Charge reduction) TLD-D (Down hole) Motor stage: 50 mm x 50 mm Model 100.5 omni probe TMP Operating system: Windows XP Upgraded with: HT Gun cable XEI Plasma cleaner Computer OL Pole piece 2015 Main power supply (SMPS).
PHILIPS/FEI Strata DB235 이온 밀링 장비는 다양한 전도성 기질의 물리적 에칭을 위해 설계된 강력하고 다양한 도구입니다. 그것 은 "에너지 '가 높은 곳 에 집중 된" 이온' 의 광선 으로 선택 된 기판 을 폭격 하여 정밀도 와 정확도 로 표면 에서 물질 을 제거 한다. FEI Strata DB235는 주로 스테인리스 스틸 챔버 및 전자 캐비닛으로 구성됩니다. 실내에는 이온 원 (ion source) 이 있는데, 이온 빔 (ion beam) 의 생성을 담당하며 기판의 표면을 물리적으로 에치합니다. 기판은 샘플 스테이지에 배치되며, 일반적으로 스테인리스 스틸 (stainless steel) 또는 티타늄 (titanium) 으로 만들어집니다. 샘플 스테이지는 0.1 ° m 해상도의 3 축 정밀 컨트롤러를 사용하여 정확한 위치를 지정할 수 있습니다. 이온 소스 (ion source) 에는 에칭 프로세스를 용이하게하기 위해 이온 빔 (ion beam) 을 샘플 표면의 미리 정해진 크기의 좁은 지점에 집중시키는 렌즈 세트가 장착되어 있습니다. 앞서 언급 한 주요 구성 요소 외에도, 필립스 스트라타 DB 235 (PHILIPS STRATA DB 235) 에는 에칭 프로세스의 정밀도를 향상시키기 위해 설계된 수많은 다른 기능이 장착되어 있습니다. 여기 에는 신체적 결함 을 효과적 으로 가리기 위하여 "이온 '과 전자 를" 샘플' 표면 으로 빠르게 인도 하는 빠른 "스위칭 '전자 광선 이 포함 된다. 또한 조절 가능한 전원 공급 장치 (Adjustable Power Supply) 를 포함하여 각 재료에 대해 전류를 최적으로 설정할 수 있습니다. STRATA DB 235는 금속, 산화물, 폴리머 및 반도체와 같은 광범위한 기질과 호환됩니다. 스팟 크기가 1äm 인 최대 150mm 직경 샘플 표면을 에칭 할 수 있습니다. 0.1äm의 정확도와 0.02äm의 반복 가능성으로 에칭 할 수 있습니다. 이 시스템은 강력한 제어 장치 (Control Unit) 에 의해 관리되며, 이를 통해 운영자는 기계를 쉽게 프로그래밍하고 밀링 프로세스를 모니터링할 수 있습니다. 또한 프로세스 최적화 및 문제 해결을 위한 고급 도구를 제공합니다. 스트라타 DB235 (Strata DB235) 는 견고하고 신뢰할 수있는 기계로, 다양한 에칭 응용 프로그램에 적합합니다. 매우 정밀하고 정확하며, 사용하기 쉽습니다. 기판 및 고급 기능과의 광범위한 호환성으로 인해 PHILIPS/FEI STRATA DB 235는 다양한 분야의 연구원들에게 이상적인 선택입니다.
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