판매용 중고 PHILIPS / FEI Helios NanoLab 600 #9222516

PHILIPS/FEI Helios Nano Lab 600은 나노 스케일 밀링 및 연마 기능을 뛰어난 정밀도 및 정확도로 제공하도록 설계된 최첨단 이온 밀링 장비입니다. 이 첨단 기술은 가속 이온을 사용하여 재료를 정확하고 효율적으로 스퍼터 (sputter) 하거나 에치 (etch) 한다는 개념을 기반으로합니다. 최신 나노 및 마이크로 스케일 머시닝 어플리케이션에 이상적인 선택입니다. FEI Helios Nano Lab 600 시스템에는 몇 가지 주요 구성 요소가 포함되어 있습니다. IPD (Interactive Process Diagnostics) 장치는 숙련된 연산자에게 초기 이온 소스 매개변수에 대한 정보를 제공합니다. 이 정보는 절삭 속도, 챔버 압력 및 기타 관련 운영 데이터를 결정하는 데 사용할 수 있습니다. 이 기계에는 FE-SEM (field-emission scanning electron microscope) 이 장착되어 이온에 의해 생성 된 소규모 회로 및 구조의 영상이 가능합니다. PHILIPS HELIOS NANOLAB 600은 정지형 이온 빔 소스를 갖춘 독특한 다극 전자기 클러스터 소스를 특징으로하며, 이는 프로세스를 설계 할 때 높은 수준의 유연성을 제공합니다. 또한 저압 작동 챔버 (Low Pressure Operating Chamber) 가 특징이며, 에칭 또는 밀링되는 물질의 표면을 파괴하지 않고도 이온이 자유롭게 움직일 수있는 대기 환경을 제공합니다. 이 도구는 최신 이온 광학 (ion optics) 과 이온 조작 기술 (ion manipulation technology) 로 설계되어, 재료를 절단 및 식각 할 때 높은 수준의 정확성과 제어를 제공합니다. Nano Lab 600에는 다양한 안전 기능도 제공됩니다. 여기에는 모델 작동 중 연산자에 노출되는 방사선 (radiation) 의 양을 줄이는 개인 차폐 에셋 (personal shielding asset) 이 포함됩니다. 이 장비는 또한 대화식 GUI (Graphical User Interface) 를 갖추고 있으며, 이를 통해 운영자는 원격 터미널 또는 컴퓨터에서 프로세스를 제어 할 수 있습니다. 이렇게 하면 시스템이 안전하고 효율적으로 작동됩니다. 결론적으로, HELIOS NANOLAB 600은 나노 스케일 밀링 및 연마 (polishing) 를 뛰어난 정확도와 정밀도로 제공하는 고급 이온 밀링 장치입니다. 광범위한 안전 기능을 갖추고 있으며, 정지형 이온 빔 (ion beam) 소스를 갖춘 독특한 다극 전자기 클러스터 소스 (multi-pole electromagnet cluster source) 를 갖추고 있어 프로세스를 설계 할 때 높은 수준의 유연성을 제공합니다. 이 기계는 최신 nano 및 micro scale 머시닝 응용 프로그램에 이상적인 선택입니다.