판매용 중고 LAM STRATA-3 #293616560

LAM STRATA-3은 다양한 재료에 대한 에치 및 스퍼터 프로세스를 위해 설계된 최첨단 이온 밀링 장비입니다. 이 시스템은 강력한 이온 소스와 다양한 밀링 전극을 결합하여 반도체, MEMS, OLED 및 기타 구성 요소와 같은 제품을 만드는 데 사용되는 에칭 및 스퍼터링 프로세스를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 유사 제품에 대한 장치의 장점으로는 대형 챔버 크기, 고정밀 포지셔닝 및 반복 가능성, 고출력 이온 소스, 최적 밀링 혼합물 제공 능력 등이 있습니다. STRATA-3에 의해 활용 된 이온 소스는 저압 또는 고압 하에서 다양한 가스에 대한 활기 넘치는 이온 전류를 생성 할 수있는 인상적인 200W 유도 결합 플라즈마 머신 (Inductive Coupled Plasma machine) 입니다. 이것은 운영자에게 이온 밀링, 플라즈마 보조 이온 밀링, 이온 빔 스퍼터링 및 반응성 스퍼터링과 같은 다양한 프로세스 옵션을 제공합니다. LAM STRATA-3은 조절 가능한 밀링 챔버를 사용하여 최대 4 개의 가스로 구성된 최적의 밀링 혼합물을 공급합니다. 약실의 적응성은 최대 에칭 효율과 정확성을 보장하는 반면, 고정밀 위치 지정 도구 (high-precision positioning tool) 는 다중 전극 및 회전 기판의 정밀한 정렬을 허용합니다. 에셋은 또한 듀얼 이미징 헤드 (Dual Imaging Head) 와 싱글 이미징 헤드 (Single Imaging Head) 의 두 가지 처리 헤드 옵션을 제공하여 광범위한 스퍼터링 기술을 허용합니다. 단일 이미징 또는 이중 이미징에 이중 이미징 헤드 (Dual Imaging Head) 를 사용할 수 있으며 단일 이미징 헤드 (Single Imaging Head) 는 단일 기판에 여러 레이어의 증착에 사용됩니다. 두 머리 모두 정확 한 "필름 '을 기판 에 정확 하게 적용 할 수 있기 때문 에 정확 한 제어 를 할 수 있다. STRATA-3의 다양한 기능 및 액세서리 (accessory) 는 나노 기술 응용 분야에도 널리 사용됩니다. 이 기능에는 충전된 입자에 대한 우발적 노출과 이온 밀링 (ion milling) 과 관련된 다른 위험 (hazard) 을 방지하는 고급 안전 시스템이 포함됩니다. 또한, 이 모델은 여러 물리적 증기 증착 시스템 및 다양한 하드웨어/소프트웨어 옵션과 호환됩니다. 마지막으로, LAM STRATA-3은 사용하기 쉬운 인터페이스 (interface) 로 설계되었으며, 운영자는 장비의 매개변수를 쉽게 프로그래밍하고 설정할 수 있습니다. 이 인터페이스는 에칭 (etching) 및 스퍼터링 (sputtering) 프로세스를 단순화하여 시스템을 가장 효율적인 이온 밀링 및 스퍼터 프로세싱 도구 중 하나로 만드는 데 도움이 됩니다.