판매용 중고 ION TECH / VEECO Sourcerer #9276714

ION TECH/VEECO Sourcerer는 반도체 재료 제조에 사용되는 고급 이온 밀링 장비입니다. 고정밀도 (high-precision) 도구를 사용하여 다양한 응용 프로그램의 웨이퍼 (wafer) 표면에서 대상 재료 레이어를 정확하게 제거할 수 있습니다. 첨단 이온 빔 기술 (advanced ion beam technology) 을 활용하는데, 이는 기존의 화학 또는 물리적 에칭 방법 대신 이온을 사용하는 고급 에칭 형태입니다. VEECO Sourcerer's ion source는 전기 와이퍼에 의해 충전 된 후 웨이퍼에 방출됩니다. 이것 은 "이온 '의 광선 을 만들어" 이온' 의 표면 으로 인도 하여 물질 표면 에 "밀링 '을 만든다. 고출력 이온 빔 (ion beam) 은 디지털 가이드 (digital guide) 에 의해 웨이퍼 표면에 정확하게 향한다. 시스템의 효능은 뛰어납니다. 서브 미크론 (나노 미터) 밀링 해상도로 높은 수준의 정확도에 도달 할 수 있으며 밀링 (mill) 하여 스크래치 (scratch) 나 돌출 (protrusion) 과 같은 결함을 20 나노 미터 이하로 정확하게 제거 할 수 있습니다. 또한 ION TECH Sourcerer의 통제 된 분위기를 통해 균일성, 높이, 평평 및 깊이에 대한 엄청나게 단단한 웨이퍼 매개 변수를 만들 수 있습니다. "파라미터 '는 원하는 요구 에 따라 최적화 될 수 있으며, 조종 된 대기 는" 에치' 를 균일 하게 유지 할 수 있다. 또한, 환경은 완전히 자동화되어 있습니다. 즉, 수동 웨이퍼 처리가 더 이상 필요하지 않습니다. 안전 생산 측면에서, 전체 실험 과정은 진공 단위 (Vacuum unit) 에 의해 차폐되어 모든 생성 된 입자가 탈출 할 수 없도록 보장됩니다. 다시 말해, 이것은 운영자와 장비 모두에게 안전한 환경을 제공합니다. 또한, 디지털 유도 이온 소스 (digitally guided ion source) 를 사용하면 연산자가 가장 정확한 결과를 얻기 위해 매개 변수를 미세 조정할 수 있습니다. 결론적으로, Sourcerer는 재료 준비에 사용되는 고급 이온 밀링 기계입니다. 이온 빔 (ion beam) 기술은 웨이퍼 표면에서 재료 레이어를 제거하는 매우 정확하고 정확한 방법을 제공합니다. 또한, 제어 환경이 제공되어 운영자가 균일 한 에칭 (etching) 및 안전한 생산에 대한 매개변수를 최적화 할 수 있습니다. 이 탁월 한 도구 는 실로 물질적 준비 작업 에서 많은 편리 함 과 정확성 을 제공 해 준다. 그렇다.