판매용 중고 ION TECH MPS 3000 PBN #293731796

ION TECH MPS 3000 PBN은 유전체, 반도체, 금속 등 다양한 물질에서 고정밀 표면 처리를 위해 설계된 이온 밀링 장비입니다. 이 시스템은 매우 정밀하고 매우 매끄러운 마무리로 표면을 생산할 수 있습니다. 화학 기계 연마 (CMP) 및 기타 기존의 건식 연마 기술에 대한 비용 효율적인 대안입니다. MPS 3000 PBN 장치는 두 가지 주요 구성 요소 (이온 소스와 진공 챔버) 로 구성됩니다. 이온 소스는 외부에서 장착 된 thoriated-tungsten arc, 고전압 전원 공급 장치 및 대량 흐름 컨트롤러로 구성됩니다. 전기적으로 전도성 흑연 마스크를 통해 목표 물질쪽으로 향하는 고전하 이온 빔 (ion beam) 을 생성합니다. 이 "마스크 '는 광선 의" 에너지' 를 줄여, 그것 을 손상 시키지 않고 섬세한 표적 물질 에 적용 시킬 수 있게 한다. 진공실 은 공정 "가스 '와" 이온' 을 진공 상태 로 유지 하기 위해 설계 되었으며, 따라서 "이온 '광선 이" 이온' 광선 을 통과 하여 표적 물질 에 도달 하게 한다. 챔버에는 진공 과정 조건을 유지하는 TMK (터보 분자 펌핑) 기계가 장착되어 있습니다. 또한, 챔버에는 극저온 냉각 도구 (cryogenic cooling tool) 가 장착되어 있어 목표 물질을 제어 온도 영역에서 유지하는 데 도움이됩니다. 이온 빔 (ion beam) 은 신중하게 제어되는 패턴으로 향하여 대상 재료에 더 깊이 침투하여 고정밀도, 초소형 표면 마무리를 만듭니다. 이온 빔 (ion beam) 은 패턴, 텍스트 등의 세밀한 세부 사항도 가져올 수 있으므로 정밀 마이크로 머신 (micromachining) 및 패턴 적용 (patterning application) 에 이상적입니다. ION TECH MPS 3000 PBN은 사용자 친화적이고 견고하도록 설계되었으며, 지속적으로 균일하게 분산된 에칭이 가능합니다. 저전력 소비량 (low power consumption) 은 자산의 에너지 효율성이 높고, 운영 비용은 최소한으로 유지됩니다. 모델이 생성 한 마무리 결과도 안정적이고 반복 가능하며, 표면 처리 프로세스 전반에 걸쳐 정밀도 (Precision) 와 일관성 (Consistency) 이 유지됩니다.