판매용 중고 HITACHI IM4000 Plus #293606553

HITACHI IM4000 Plus는 반도체, 의료 및 항공 우주 산업의 응용을위한 샘플 준비, 기판 제거 및 컨디셔닝 계층을 위해 설계된 고급 이온 밀링 장비입니다. 이 시스템에는 샘플 교체 또는 제거를위한 듀얼 빔 챔버 (dual beam chamber) 와 전자영상장치 (electron imaging unit) 가 장착되어 있어 사전/후처리 분석에 도움이 됩니다. 기계의 주요 구성 요소는 이온 소스, 상대 추력 단계, 이동 가능한 플루오린 총, 로드 락 챔버, 안테 챔버 및 anon-chamber입니다. 이 도구의 이온 소스는 최대 30kV의 이온 빔 에너지 (ion beam energy) 를 생산할 수 있으므로 대상 표면에서 샘플과 조건 레이어를 정확하고 정확하게 제거 할 수 있습니다. 에셋의 상대적 (relative-thrusting) 단계는 샘플 이동을 제공하여 사용자가 원하는 대상 위치에 이온 빔을 정확하게 정렬할 수 있도록 합니다. 한편, 이동식 플루오린 총은 개선 된 결과를 위해 빔에서 이온과 전자의 이온 조성을 변화시키는 데 도움이된다. 이 모델에는 로드 락 챔버 (load lock chamber) 가 장착되어 있어 장비의 초고진공 환경을 깨지 않고 샘플 로딩이 가능합니다. antechamber와 on-chamber는 수소와 산소가 모두 제거됩니다. 이렇게 하면 시스템에서 충전 (charge) 전송을 활성화하여 사용자가 샘플 제거 프로세스를 정확하고 정확하게 제어할 수 있습니다. 이 장치에는 6 축 스캐닝 스테이지와 고해상도 정렬 머신 (Alignment Machine) 이 포함되어 있으며, 이를 통해 최대 0.07 발열의 정확도로 샘플을 정확하게 정렬하고 정위할 수 있습니다. HITACHI IM 4000 PLUS는 높은 공구 처리량과 균일하고 반복 가능한 결과를 제공하도록 설계되었습니다. 또한 고급 이온 밀링 제어 소프트웨어 (advanced ion milling control software) 가 장착되어 샘플 제거 프로세스 동안 이온 빔 매개변수가 정확하게 유지되도록 합니다. 에셋은 또한 컬러 이미징 모델 (Color Imaging Model) 과 함께 제공되며, 프로세싱 전후에 샘플 서피스를 관찰할 수 있는 기능을 제공합니다. 또한, 장비의 자동 타겟팅 (auto-targeting) 샘플 포지셔닝 시스템은 기술자의 안전을 염두에 두고 설계되어, 사고나 실수의 위험을 줄이는 데 도움이 됩니다. IM4000 Plus는 다양한 어플리케이션에 적합한 다기능 샘플 준비 장치입니다.