판매용 중고 GATAN 691 #293827025

GATAN 691은 전송 전자 현미경 (TEM) 을위한 표본 표면을 준비하는 데 사용되는 이온 밀링 장비입니다. 이온 소스를 사용하여 가속 및 집중된 이온으로 표면을 폭격합니다. "이온 '은 표본 의 표면 과 상호 작용 하여, 점점 더 높은 각도 에서 물질 을 분출 하여 결국 표면 을 제거 한다. "스퍼터링 (sputtering)" 이라고하는이 기술은 열 손상 없이, 기판 재료에 기계적으로 영향을 미치지 않고 표면 층을 제거 할 수 있습니다. 691은 고효율 이온 밀링 시스템입니다. 이온 건 챔버, 패러데이 쉴드, 표본 홀더, 샘플 난방 단계 및 제어 장치로 구성됩니다. 이온 건 챔버에는 다른 각도로 설정된 4 개의 스퍼터 건이 포함되어 있습니다. 이 총들은 표본에서 균일하게 직접 이온 빔을 가지며, 이온은 가속 이온으로 폭격됩니다. 이온 총 챔버 주변의 Faraday 방패는 외부 필드의 전기 간섭을 방지합니다. 표본 보유자는 크기가 다른 표본을 보유 할 수 있습니다. 또한 표본을 1000 ° C까지 가열하여 최적의 스퍼터링 성능을 제공합니다. 시료 "히터 '는" 컴퓨터' "프로그램 '에 의하여 조절 되며, 이것 은 표본 의 온도 를 정밀 하게 제어 할 수 있게 해 준다. GATAN 691 장치는 사용하기 쉽고 효율성이 높습니다. 스퍼터 속도 (sputter rate), 이온 빔 에너지 (ion beam energy), 빔 전류 (beam current) 와 같은 이온 소스 매개변수를 조정할 수 있는 컨트롤 머신이 있습니다. 또한 표본 동작을위한 수동 제어와 미세 튜닝을위한 기울기를 제공합니다. 691은 표본 표면 준비를위한 안전하고 신뢰할 수있는 방법을 제공합니다. 표면 이미징 및 분석, 전도성 코팅, 에칭 등 다양한 애플리케이션에 적합합니다. 고정밀 이온 소스와 다중 스퍼터 건 (sputter gun) 을 사용하여 GATAN 691 이온 밀링 도구는 표본 표면 준비를위한 정확하고 효율적인 시간 절약 기술을 제공 할 수 있습니다.