판매용 중고 GATAN 691 #293808870

개탄 691 (GATAN 691) 은 고급 미세 분석을 위해 재료를 정확하게 준비하도록 설계된 최첨단 이온 밀링 장비입니다. 이온 밀링 (Ion milling) 은 표면이 이온으로 폭격되고 물질이 표면에서 물리적으로 제거되는 과정이다. 이 과정은 원자 프로브 단층 촬영, 전송 전자 현미경, 스캐닝 전자 현미경, 오거 전자 분광학과 같은 추가 특성 기법을 위해 표면을 준비합니다. 691 은 이온 폭격 의 방향, 강도, 지속 시간 을 제어 할 수 있다. 또한 인시 투 (in-situ) 넓은 전자를 사용하여 이온 빔으로 인한 일시적인 표면 손상의 영향을 줄입니다. 이 시스템은 매우 미세한 해상도로 부드럽고 평평한 서피스를 생산할 수 있습니다. 이온 밀링 공정을 조정하고 최적화하여 원하는 서피스 품질 (surface quality) 과 지형 (topography) 을 달성할 수 있습니다. GATAN 691 이온 밀링 장치는 처리 중 적절한 환경을 유지하기 위해 강력한 진공 챔버를 사용합니다. 밀링 할 "샘플 '은" 챔버' 에 넣어지고 여러 가지 "에너지 ', 전형적 으로" 아르곤' 혹은 산소 의 "이온 '으로 폭격 당한다. "이온 '은 서서히 표본 을 침식 하여, 결국 훌륭 한 해상도 로 매끄러운 표면 을 만들어 낸다. 이온 빔 (ion beam) 은 또한 특정 패턴으로 향하여 샘플에 특정 깊이 침투를 달성 할 수있다. 691 은 최고 수준의 안정성과 반복성 (repeatability) 을 제공하여 다양한 애플리케이션에 이상적인 선택입니다. 기계는 최대 6 평방 인치의 표면 면적을 가진 미세 연마 된 표면을 만들 수 있습니다. 또한 처리 시간이 매우 빠르며, 일부 재료는 30 분 이내에 처리 할 수 있습니다. 이 도구는 또한 고도로 자동화되어 있으며, 초기 폭격 (imbardment) 에서 파편의 최종 제거까지 제어 된 처리를 허용합니다. 가탄 691 (GATAN) 691 이온 밀링 (ion milling) 자산은 과학적 연구 목적에 이상적인 선택입니다. 원자 위치를 측정하고 나노 스케일 (nanoscale) 피쳐를 연구하는 것과 같은 응용 분야에 이상적이기 때문에, 가장 미세한 세부 사항이 보존된 초소형 서피스를 생성할 수 있습니다. 이 장비는 고급 현미경 분석을위한 재료를 준비하기에 적합합니다.