판매용 중고 FEI / MICRION Vectra 986FC #293718111

FEI/MICRION Vectra 986FC는 반도체 제조, 재료 과학 및 나노 기술 분야에서 정밀 재료 제거 및 표면 수정을 위해 설계된 정교한 이온 밀링 장비입니다. 이 고급 도구를 통해 연구자와 엔지니어는 밀링 및 연마 작업에서 서브 미크론 (sub-micron) 정확도를 달성 할 수 있으며, 이는 높은 정밀도로 복잡한 구조를 제작하기위한 필수 도구입니다. FEI Vectra 986FC 시스템의 중심에는 일반적으로 아르곤 (argon) 또는 갈륨 (gallium) 으로 만들어진 고 에너지 이온을 생성하여 샘플의 표면을 폭격하는 이온 빔 소스가 있습니다. 이 이온들은 표면에서 물질을 분출하여, 선택적으로 레이어를 제거하여 정확한 패턴과 구조를 만듭니다. 이온 빔 (ion beam) 은 에너지, 각도, 강도 측면에서 미세하게 제어 될 수 있으며, 이를 통해 사용자는 밀링 프로세스를 특정 요구 사항에 맞게 조정할 수 있습니다. MICRION Vectra 986FC의 주요 기능 중 하나는 고급 이미징 및 타겟팅 기능입니다. 이 장치에는 SEM (Scanning Electron Microscopy) 및 FIB (Focused Ion Beam) 이미징과 같은 고해상도 이미징 도구가 장착되어 있으며, 밀링 중 샘플 표면의 실시간 시각화를 제공합니다. 이를 통해 사용자는 이온 빔을 정확하게 배치하고 나노미터 이하의 해상도로 밀링 진행률을 모니터링할 수 있습니다. 또한, Vectra 986FC는 다양한 재료 및 응용 프로그램을 수용 할 수있는 다양한 밀링 모드 및 기술을 제공합니다. 넓은 영역을 빠르게 제거하기 위해 넓은 빔 밀링 (broad-beam milling) 을 선택하거나 고해상도 패턴화 및 상세한 조각을 위해 집중된 이온 빔 밀링 (ion beam milling) 을 선택할 수 있습니다. 또한, 기계는 극저온 냉각 및 이온 빔 보조 증착 프로세스를 지원하여 다양한 재료 처리 작업에 대한 기능을 확장합니다. 자동화 및 사용 편의성 측면에서 FEI/MICRION Vectra 986FC는 정교한 소프트웨어 제어 및 프로그래밍 인터페이스를 갖추고 있습니다. 사용자는 복잡한 밀링 시퀀스를 정의하고, 이온 빔 조작에 대한 매개변수를 설정하고, 반복 가능하고 신뢰할 수 있는 결과를 위한 사용자 정의 밀링 레시피를 만들 수 있습니다. 또한 자동화된 피드백 메커니즘을 통해 밀링 깊이, 균일성, 서피스 품질을 정확하게 제어할 수 있습니다. 또한, FEI Vectra 986FC는 다용성과 확장성을 위해 설계되었으며, 추가 모듈 및 액세서리 옵션으로 기능을 향상시킵니다. 여기에는 반응성 이온 밀링을위한 가스 주입 시스템, 다중 모델 분석을위한 in-situ 샘플 준비 챔버, 다양한 샘플 크기와 모양을 처리하기위한 샘플 홀더가 포함됩니다. 자산은 EDS (energy-dispersive X-ray spectroscopy) 및 SIMS (secondary ion mass spectrometry) 와 같은 다른 분석 도구와 통합되어 종합적인 재료 특성 및 분석을 제공 할 수 있습니다. 전반적으로 MICRION Vectra 986FC 이온 밀링 모델은 고정밀 재료 처리 및 표면 수정을위한 최첨단 솔루션으로 두드러집니다. 고급 기능, 이미징 기능, 자동화 기능 등을 통해 반도체 업계나 그 이상에서 연구, 개발, 제조 (Manufacturing) 애플리케이션을 위한 강력한 툴이 될 수 있습니다. 이온 밀링 프로세스에서 탁월한 제어와 유연성을 제공함으로써, Vectra 986FC는 사용자가 나노 기술 및 재료 과학에서 혁신의 경계를 밀어 낼 수 있습니다.