판매용 중고 FEI / MICRION 9500 EX #9150796
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ID: 9150796
Focused Ion Beam (FIB) system
I-Gun type: 5nm Column
Beam current: 3pA~931pA (50kV)
Depo system:
Tungsten
Tmcts
O2
H2O
Cl2 / Br2
XeF2
Vacuum types:
Turbomolecular pump
(2) Mechanical pumps
(2) Ion getter pumps
Stage type: 200 x 200 mm
Loadlock type: Loadlock system
PS / OS: IBM RISC System / 6000 43P Model 140 computer / AIX 4.1.5
Detector: MCP.
FEI/MICRION 9500 EX 이온 밀링 장비는 나노 스케일 구조 및 부품 제작을 위해 설계된 고급 이온 밀링 장치입니다. 저에너지와 고이온 가속도의 고빔 전류 (high beam current) 를 사용하여 복잡한 표면 구조를 생성 할 수 있습니다. 갈륨 이온 빔 (gallium ion beam) 을 사용하여 금속, 도자기 및 반도체를 포함한 광범위한 물질의 표면을 세밀하게 밀링합니다. 이 장치는 또한 엄격한 공차로 3D 나노 구조를 생성 할 수있는 기능을 제공합니다. FEI 9500 EX 이온 밀링 시스템은 초점 스캐닝 이온 빔을 사용하여 작은 기능과 높은 정밀도로 표면을 생성 할 수 있습니다. 이 장치는 사용자 친화적 (high user-friendly) 인터페이스를 통해 자동화되어 필요에 따라 쉽게 매개변수를 조정할 수 있습니다. 또한 XPS 분석 머신 (XPS analysis machine) 을 사용하여 밀링 진행을 모니터링하고, 사용자가 서피스를 확인하고, 원하는 결과에 대한 밀링 단계를 빠르게 조정할 수 있습니다. 이온 밀링 공정의 관점에서 MICRION 9500 EX는 갈륨 (Ga +), 네온 (Ne +), 제논 (Xe +), 헬륨 (He +), 알루미늄 (Al +), 붕소 (B +) 및 티타늄 (Ti +). 이온 밀링 공정은 정확하며, 샘플 표면에서 이온 빔의 정확한 측면 제어가 가능하다. 또한 이 도구는 가속 전압, 빔 전류, 해상도, 빔 스팟 프로파일, beam over scan range, 스캔 속도, 유지 시간, 샘플 온도 등 다양한 작동 매개변수를 제공합니다. 9500 EX에는 강력한 컴퓨터 자산 (computer asset) 과 다양한 소프트웨어 도구 (software tools) 가 장착되어 있어 사용자 정의 프로세스를 프로그래밍할 수 있습니다. 이 모델에는 각 작업에 사용되는 모든 매개변수와 설정을 저장하는 영구 메모리 (permanent memory) 가 내장되어 있으므로 밀링 프로세스를 다시 생성할 수 있습니다. 또한, 직관적인 그래픽 사용자 인터페이스 (Graphical User Interface) 는 밀링 진행 상황을 추적하고, 밀링 결과를 모니터링하고 분석할 수 있는 분석/보고 도구를 제공합니다. 전반적으로 FEI/MICRION 9500 EX는 뛰어난 자동화 수준과 사용자 친화적 인 인터페이스를 갖춘 강력하고 정밀한 이온 밀링 장비를 제공합니다. 정확하고 반복 가능한 밀링 프로세스를 제공하기 때문에 나노 구조 (nanosstructure) 와 컴포넌트 밀링 (component) 을 위한 완벽한 선택입니다. 뛰어난 밀링 매개변수, 다양한 이온 유형, 자동화된 인터페이스 덕분에, 이 시스템은 고급 이온 밀링 (ion milling) 기능을 찾는 사람들에게 적합한 결정입니다.
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