판매용 중고 FEI / MICRION 9500 EX #293641374
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ID: 293641374
Focused Ion Beam (FIB) system
Stage type: 200 mm x 200 mm
Loadlock type
IBM RISC System, 6000 43P
140 Computer/AIX 4.1.5
MCP Detector
I-Gun column type: 5 nm
Beam current: 3 pA - 931 pA (50 kV)
Depo system:
Tungsten
TMCTS
Gases: O2, H2O, Cl2/Br2, XeF2
Vacuum pump:
Turbo molecular pump
(2) Mechanical pumps
(2) Ion getter pumps.
FEI/MICRION 9500 EX는 샘플 준비를 위해 설계된 고급 이온 밀링 장비입니다. 다양한 기판 재료에 대해 고정밀 표면 평면 화를 제공하는 것을 전문으로합니다. 스퍼터링, 스퍼터 에칭, 확장 이온 밀링 및 기타 재료 제거 기술과 같은 공정 응용 프로그램에 적합합니다. FEI 9500 EX는 전동 단계 및 가변 AC/DC 이온 소스를 허용하는 디지털 컴퓨터 제어 6 축 선형 모터 드라이브 시스템을 사용합니다. 이중 소스 AC/DC 장치는 이온 밀링 응용 프로그램에 최적화된 신뢰할 수있는 이온 빔을 만드는 데 사용됩니다. 이 기계는 또한 에너지 효율적인 작동과 적응 형 빔 플럭스 (beam flux) 및 명목 이온 소스 필라멘트 작동을 제공하는 고급 이온 소스 설계를 특징으로합니다. MICRION 9500 EX에는 24 위치 샘플러 카세트, 디지털 각도 고니 오미터, 고속 셔터 및 샘플 회전 단계가 포함됩니다. 9500 EX에는 고해상도 광학 디스플레이 도구 (Optical Display Tool) 가 장착되어 있어 이온 밀링 프로세스를 실시간으로 볼 수 있습니다. 이 에셋은 균일 한 평면 화, 곡물 정렬 및 입자 축적을 위해 기판 표면을 모니터링 할 수 있습니다. FEI/MICRION 9500 EX는 또한 고해상도 용량 제어 모델과 특정 프로세스에 대한 다양한 맞춤형 스캐닝 매개변수를 갖추고 있습니다. 소프트웨어 (Software) 및 하드웨어 (Hardware) 구성 요소는 이온 밀링 프로세스를 제어하고 광범위한 재료 제거 기술의 성능을 최적화하는 포괄적인 접근 방식을 제공합니다. FEI 9500 EX는 빠르고, 정확도가 높은 샘플 플라나라이제이션을 제공하도록 설계되었으며, 다양한 자동화 및 실무 운영 기능을 포함합니다. 또한 통합 냉각 시스템, 원격 모니터링 기능, 작업 흐름 장치 (work flow unit), 사용자 친화적 인터페이스 등 다양한 장비 액세서리와 호환됩니다. 또한 MICRION 9500 EX는 SIMS 분석, 원소 구성 분석 및 X- 선 회절 분석과 같은 다양한 고급 분석 능력을 제공합니다. 9500 EX는 시장에서 사용할 수있는 가장 고급 이온 밀링 시스템 중 하나입니다. 다양한 기판 재료 (substrate material) 에 매우 상세한 서피스를 생성하기 위한 신뢰할 수 있고 다양한 도구이며, 서피스 준비 프로세스 (surface preparation process) 를 최적화하는 광범위한 기능을 제공합니다.
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