판매용 중고 FEI / MICRION 2500 #9294116

FEI/MICRION 2500 (FEI/MICRION 2500) 은 샘플 표면에 피쳐를 생성하기 위해 아르곤 (argon) 또는 기타 비활성 이온 빔으로 물질을 스퍼터링하여 작동하는 이온 밀링 장비입니다. 이 시스템에는 트윈 열 (twin-column) 디자인이 포함되어 있으며, 사용 가능한 챔버 구성 및 추가 옵션 (예: 샘플 난방, 가스 입구/콘센트, 추가 샘플 단계 및 최대 범위의 응용 프로그램에 대한 기타 컨트롤) 의 다양성이 가능합니다. 또한 커스터마이징 가능한 형상이 있는 에치 챔버 (etch chamber) 에는 큰 샘플의 경우 큰 균일 영역, 높은 종횡비와 선형 프로파일의 경우 작은 영역 (small area) 이 있습니다. FEI 2500에는 강력한 RF (Dual Port Radio Frequency) 이온 소스와 고출력 직접 또는 DC 오프셋 RF 이온 소스가 통합되어 있으며, 둘 다 활성 차폐 기술입니다. 이 장치는 2 차 전자 방출을 제거하여보다 정확한 빔 전류를 제어합니다. 이 기계는 또한 가변 전류 제어, 빔 스티어링, 초점 조정, 빔 반경 제어에 대한 옵션 배열을 제공합니다. MICRION 2500 의 높은 진공 (vacuum) 듀얼 챔버 설계는 모니터링 기능이 포함된 로드 잠금 (load-lock) 도구를 사용하여 안정적인 장기 운영 및 하이엔드 자산 안정성을 제공합니다. 이 도구에는 또한 전하 빌드 업 (charge build-up) 을 줄이고 샘플의 오염을 줄이기 위해 다양한 자석 기반 격리 시스템이 있습니다. 2500에는 액티브 빔 스티어링 (Active Beam Steering), 정렬 (Alignment) 및 초점 (Focus) 을 포함한 정밀 제어 옵션이 장착되어 있어 최적의 성능과 향상된 스퍼터 속도 기능을 제공합니다. FEI/MICRION 2500에는 프로그래밍 가능한 에치 레시피 생성뿐만 아니라 전자 레시피 소스를 작동하기위한 포괄적 인 프로세스 자동화 모델이 포함되어 있습니다. 즉, GUI (그래픽 사용자 인터페이스) 및 통합형 네트워크와 결합하여 모든 수준의 사용자에게 편리한 작업을 수행할 수 있습니다. FEI 2500 은 5 nm 정도의 크기 (feature size) 를 만들어 내며, 박막 증착 (thin film deposition), 낮은 유전체 재료 건조 (drying), 반도체 재료의 높은 종횡비 (aspect ratio) 기능 등 다양한 응용 분야를 갖춘 강력한 툴입니다. 이 모든 이점은 MICRION 2500을 작업에 정확하게 필요한 모든 실험실의 필수 부분으로 만들기 위해 결합됩니다.