판매용 중고 FEI Helios NanoLab 450S #9363521
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ID: 9363521
Dual beam SEM System
Electron source: Schottky thermal field emitter
Ion source: Gallium liquid metal, 1000 hours
STEM Resolution: 0.8 nm
SEM Resolution: Optimal WD
0.8 nm at 15 kV
0.8 nm at 2 kV
0.9 nm at 1 kV
1.5 nm at 200 V with beam decleration
Coincident WD
0.8 nm at 15 kV
0.9 nm at 5 kV
1.2 nm at 1 kV
Ion beam resolution at coincident point:
4.5 nm at 30 kV
2.5 nm at 30 kV
Stages:
Flipstage with in-situ STEM Detector
Omniprobe sample extractor
5 Axis all piezo motorized
100 mm XY motion
Loadlock maximum, 3"
Sample types:
Wafer pieces
Packaged parts
TEM
Grids
Whole wafers, 4"
Maximum sample size: 80 mm diameter
User interface:
Windows GUI with integrated
SEM
FIB
GIS
Simultaneous patterning
Imaging mode
GIS:
Carbon
Tungsten
Platinum
Accessories:
Chiller – NESLAB ThermoFlex 900
UPS
SCS10i Pump
Landing voltage:
SEM: 50 V - 30 kV
FIB: 500 V - 30 kV.
FEI Helios Nano Lab 450S는 고급 정밀도와 정확도의 독특한 조합을 제공하는 듀얼 빔 이온 밀링 장비입니다. 이 시스템은 고급 샘플 특성화에 적합한 매우 정밀한 밀링 프로세스를 제공합니다. 이중 빔 장치에는 이온 빔 열, SEM (in-column scanning electron microscope) 단계 및 고해상도 디지털 이미징 기계가 포함됩니다. 이온 빔 (ion beam column) 은 고전류, 고에너지 및 고해상도 이온을 특징으로하며, 다양한 샘플 재료와 깊이를 밀링할 수 있습니다. 열 내 SEM 단계는 높은 배율과 서브 마이크로미터 해상도로 샘플의 스캔 및 이미지를 제공합니다. 또한, 통합 디지털 이미징 도구는 스테레오 광학 이미지 및 3D 재구성을 포함하여 샘플의 in-situ 및 post-milling 이미징을 모두 제공합니다. Helios Nano Lab 450S에는 광범위한 샘플 환경과 기능이 있습니다. 래스터링 및 병렬 밀링을위한 공압 샘플 회전 단계, 미세한 수동 조작이있는 20x 샘플 스테이지, 표본로드 용 자동 위치 팔레트, 사용자 정의 샘플 타일 용 팔레트 (pallet) 가 장착되어 있습니다. 에셋은 최대 0.5 미터의 정확한 위치 해상도를 제공하며, 넓은 면적과 딥 필드 밀링 (deep-field milling) 을 모두 할 수 있습니다. 또한 가변 압력 샘플 챔버 (variable pressure sample chamber) 가 특징이며, 낮은 가속 전압에서 더 높은 정밀도에 대해 낮은 진공 밀링을 가능하게합니다. 또한이 모델에는 이중 이온 소스, 고강도 전자 (HE) 소스 및 최적화 된 밀링 빔 편향을위한 이중 추출 전자 총이 포함됩니다. FEI Helios Nano Lab 450S는 결함 분석, MEMS 및 마이크로/나노 제작, SEM, TEM 및 금속 촬영 샘플 준비와 같은 광범위한 산업 및 학술 응용 프로그램을 위해 설계되었습니다. 이 장비는 다양한 밀링 (milling) 작업을 위한 유연하고 신뢰할 수 있는 밀링 솔루션을 제공합니다. 최소한의 표면 손상, 신뢰할 수있는 반복 가능성, 높은 수준의 구조적 충실도 (structural fidelity) 로 높은 생산성을 달성하도록 설계되었습니다.
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