판매용 중고 FEI Helios NanoLab 450S #9268041
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판매
ID: 9268041
Focused Ion Beam (FIB) system
Electron source: SCHOTTKY Thermal field emitter
STEM Resolution: 0.8 nm
Ion source: Gallium liquid metal
Running hours: 1,000
Landing voltage:
SEM: 50 V - 30 kV
FIB: 500 V - 30 kV
SEM Resolution:
Optimal WD:
0.8 nm at 15 kV
0.8 nm at 2 kV
0.9 nm at 1 kV
1.5 nm at 200 V With beam declaration
Coincident WD:
0.8 nm at 15 kV
0.9 nm at 5 kV
1.2 nm at 1 kV
Ion beam resolution at coincident point:
Preferred statistical method: 4.5 nm at 30 kV
Selective edge method: 2.5 nm at 30 kV
Stage:
Flipstage with in-situ STEM detector
OMNIPROBE Sample extractor
5-Axis piezo motorized
XY Motion: 100 mm
Loadlock: Maximum 80 mm diameter
Sample types:
Wafer pieces
TEM
Grids
Whole wafers: Up to 100 mm
User interface:
Windows GUI with integrated SEM
FIB
Gas Injection System (GIS)
Patterning
Imaging mode
Detectors: ETD, TLD, ICE
Chamber 1: Carbon C10H8
Chamber 2: Tungsten W(CO)6
Chamber 3: Platinum C5H4CH3Pt(CH3)3
Remote components:
NESLAB ThermoFlex900 chiller
XDS10i Pre vacuum pump
ONEAC Transformer: 200V AC, Single phase
APCO UPS: 100V AC, Single phase
EDS Resolution: <30 nm on Thinned samples
Does not include Hard Disk Drive (HDD).
FEI Helios Nano Lab 450S는 정밀 샘플 준비를위한 탁월한 성능을 제공하는 이온 밀링 장비입니다. 이 시스템은 연구원들이 SEM (Scanning Electron Microscopy) 및 TEM (Transmission Electron Microscopy) 을위한 최고 품질의 샘플을 생산하도록 설계되었습니다. 이미징, 분석, 디바이스 제작을 위한 샘플을 준비하는 데 이상적인 솔루션입니다. Nano Lab 450S는 이온 밀링 (ion milling) 과 석판 (lithographic) 기술의 독특한 조합을 사용하여 샘플의 표면에 정확한 패턴, 전기 구조 및 기계적 특징을 만듭니다. 이온 밀링 공정은 고도로 통제되어 연구원들이 균일 하고 반복 가능한 결과를 낼 수 있습니다. 360도 회전 샘플 홀더를 사용하면 이온 빔 (ion beam) 의 각도를 최적화하여 최상의 결과를 얻을 수 있습니다. 이 장치에는 다중 기본 전압 (15-30kV) 및 빔 에너지 (1-10keV) 를 지원하는 고출력 듀얼 이온 빔 머신이 있습니다. 이중 이온 빔을 통해 연구자들은 복잡한 구조를 에치 (etch) 하고 이상한 모양의 특징을 준비 할 수 있습니다. 또한, 이중 이온 빔은 전통적인 이온 밀링 시스템보다 열이 적어 SEM 및 TEM 모두에 대한 샘플을 빠르고 정확하게 준비 할 수 있습니다. 이 도구에는 패턴 정의, 마스크 생성, 노출, 이온 밀링을 자동화하는 최첨단 ContolPix (TM) 자동 패턴 에셋이 장착되어 있어, 사용자가 패턴을 빠르고 정확하게 복제하거나 자신의 사용자 정의 마스크를 정의할 수 있습니다. 이 모델은 또한 3D 구조에 대한 다중 레벨 이중 노출 및 나놀리 토그래피 (nanolithography) 를 포함하여 다양한 석판 그래피 기술을 지원합니다. Nano Lab 450S는 이온 빔 전류 (ion beam current) 및 에치 레이트 (etch rate) 를 제어하여 최상의 결과를 보장하는 다양한 옵션을 제공합니다. 또한, 장비는 에칭 (etching) 결과의 정밀도를 유지하기 위해 진동을 줄이기 위해 설계되었습니다. 또한 Nano Lab 450S 는 고급 모니터링 및 제어 (Control) 기능을 통해 프로세스를 최대한 안전하게 제어할 수 있습니다. Helios Nano Lab 450S는 최첨단, 매우 정밀한 이온 밀링 시스템으로, 샘플 준비를위한 비교할 수없는 성능을 제공합니다. 강력한 듀얼 이온 빔 유닛 (Dual-Ion Beam Unit), 자동 패턴화 머신 (Automated Patterning Machine), 고급 모니터링 및 제어 기능을 갖춘 Nano Lab 450S는 최고 품질의 이미징, 분석 및 장치 제작 샘플을 생산하려는 연구원들에게 탁월한 선택입니다.
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