판매용 중고 FEI Helios NanoLab 400S #9145584
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ID: 9145584
빈티지: 2007
FIB-SEM
Electron Column : Elstar
Ion Column : Sidewinder
Qty P\N Description
1 FP 2046/34 Helios400™
1 FP 3400/30 Platinum deposition
1 FP 3400/40 Enhanced etch
1 FP 3400/50 Insulator enhanced etch
1 FP 3550/31 FEI Navigator software
1 FP 3550/40 Knights CAD navigation interface keys
1 FP 3600/17 Omniprobe auto probe 200.2
1 233312-00 Evactron C. anti-contaminator
1 233351-01 Feed-through Port-Y for evactron
1 9425 061 69546 NA Installation kit for nova nanolab. strata & helios
2007 vintage.
FEI Helios Nano Lab 400S는 가장 어려운 나노 표면 응용 프로그램에 사용되는 이온 밀링 장비입니다. 나노 구조 (nanosstructure) 와 서피스 (surfaces) 의 제작에 있어서 표면 액세스를 극대화하고 전례없는 정밀도와 제어를 제공하도록 설계되었습니다. Helios Nano Lab 400S는 산소, 질소, 아르곤 및 동위 원소 조합을 포함하여 다양한 가스를 활용하면서 뛰어난 제어 및 해상도를 제공하는 스캐닝 이온 소스를 특징으로합니다. 이를 통해 Helios Nano Lab은 다양한 고급 나노 제조 프로세스에 필요한 다양성을 즉시 조정하고 제공 할 수 있습니다. Helios Nano Lab은 또한 최고 15nm/s의 속도와 최대 150mA의 이온 전류를 갖춘 고급 스캐닝 가속을 제공합니다. 이 조합은 프로세스가 안정적이고 반복 가능하며, 가장 복잡한 나노 구조 (nanosstructure) 의 사용자 지정 처리를 허용합니다. Helios Nano Lab의 고급 소프트웨어에는 강력한 이미지 처리, 기능 인식 및 궤적 최적화 기능이 포함되어 있습니다. 이를 통해 패턴, 기울기 제어, 자동 샘플 정렬의 자동 제어 및 등록이 가능합니다. 이 시스템에는 낮은 전도성 이온 청소 및 이온 폭격 기능도 포함됩니다. Helios Nano Lab의 가장 주목할만한 기능 중 하나는 환경 호환성입니다. 이 장치는 광범위한 가스와 호환되며 플라즈마 프리 정권 (plasma-free regime) 도 갖추고 있습니다. 이렇게 하면 환경이 최소화되고, 시스템 (machine) 을 최소 설정 시간 (setup time) 만으로도 사용할 수 있습니다. 간단히 말해, FEI Helios Nano Lab 400S는 고급 나노 브러스트 제조 및 분석 프로세스를 위한 완벽한 솔루션을 제공합니다. 스캔 이온 소스 (scan ion source), 고급 이미징 및 등록 알고리즘 (advanced imaging and registration algorithm) 및 다양한 가스에 적응하는 기능의 조합으로 Helios Nano Lab은 나노 표면 응용 프로그램에 도전하는 이상적인 선택입니다.
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