판매용 중고 FEI Helios NanoLab 400 #9262998

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ID: 9262998
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2009
Focused Ion Beam (FIB) system, 12" Elstar FEG Electron column: 350 V - 30 kV In-lens SE BSE Detector Elstar electron column (Sub-nanometer) Sidewinder ion column: 30 kV Milling power: 21 nA Beam current CDEM With 5 nm image resolution Windows OS and FEI UI TSS Networking computer Five-axis motorized compucentric stage with load lock Specimen coverage (Diameter): 100 mm Load lock Chamber scope for real time observation Vacuum system: Oil free consisting (3) IGP Air cooled turbo Dry PVP GIS installed: W and IEE Does not include support PC 2009 vintage.
FEI Helios Nano Lab 400은 물리 및 생명 과학 응용 프로그램을 위해 설계된 고정밀 이온 밀링 장비입니다. 나노 구조 조정, 초단색 및 표면 분석을위한 고급 도구입니다. 이 시스템은 원자 (atom) 별 재료 원자 제거, 레이어 (layer) 별 재료 원자 제거 및 샘플 전송 장치 (transfer unit) 를 통해 매우 정밀한 마이크로 머신 (micromachining) 및 다양한 재료의 재생을 가능하게합니다. 헬리오스 나노 랩 400 (Helios Nano Lab 400) 에는 갈륨 이온 빔을 사용하여 표면에서 재료를 집중적으로 밀어내는 특수 나노 밀링 건이 장착되어 있습니다. 기계에는 이온 빔의 빔 직경을 작게 유지하는 자동화 된 "스마트 사이징 (smart-sizing)" 기능이 있어 초미세 구조를 처리 할 수 있습니다. 또한 밀링 속도를 조절하고 총 막힘을 방지 할 수있는 빔 송풍기 (beam blower) 가 특징입니다. 빔 송풍기를 사용하여 다양한 기판에 나노 구조를 만들 수도 있습니다. 이 도구는 또한 고해상도 5축 조작기를 사용하여 샘플의 정확한 위치 지정 및 밀링을 허용합니다. 자동 샘플 인식 (automated sample recognition) 자산은 빔이 최적의 밀링 정밀도에 맞게 제대로 배치되도록 합니다. 또한 FEI Helios Nano Lab 400은 현장 강화 이온 소스를 특징으로하여 넓은 지역에 균일 한 밀링을 보장합니다. 모델에는 고유한 이미징 (Imaging) 기능이 있어 밀링 작업의 고대비 이미지를 생성할 수 있습니다. 헬리오스 나노 랩 400 (Helios Nano Lab 400) 은 장비의 물리적 기능 외에도 고급 제어 시스템을 갖추고 있어 사용자 정의 밀링 프로그램을 쉽게 만들 수 있습니다. 온보드 데이터베이스는 밀링 매개변수를 저장하므로 반복 가능하고 정확한 결과를 얻을 수 있습니다. 이 장치는 구성 요소를 빠르고 효율적으로 정리하고 변경할 수 있는 자동 시스템 (Automated System) 을 통해 간편한 운영 및 유지 관리를 위해 설계되었습니다. 직관적인 GUI (Graphical User Interface) 와 상세한 사용자 설명서를 통해 사용자는 시스템을 쉽게 설치, 운영하여 생산성을 극대화할 수 있습니다. 전반적으로 FEI Helios Nano Lab 400은 정밀 나노 구조 조정 및 표면 분석을위한 포괄적 인 기능성 도구를 제공합니다. 자동화된 마이크로 머신 (micromachining) 기능은 사용자가 반복 가능하고 정확한 결과를 제공하는 반면, 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 와 자동화된 시스템 (automated systems) 은 운영 및 유지 관리를 단순화하여 생산성을 극대화할 수 있습니다.
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