판매용 중고 FEI Expida 1285 #9364861

FEI Expida 1285 이온 밀링 장비는 연구 및 산업 응용 분야에서 고급 전자 현미경 분석에 사용되는 강력한 이미징 및 제작 도구입니다. 원자 해상도 (atomic resolution) 에서 샘플에서 재료를 제거 할 수 있으며, 표본의 매우 상세한 영상을 가능하게한다. 시스템의 핵심에는 이온 소스 (ion source) 가 있는데, 이는 샘플 플랫폼에 중점을 둔 가속 이온을 제공합니다. 이온 소스는 고전압 원, 이온-광학 배열, 그리고 단일-이온 밀링을 허용하는 초점 전극의 조합을 사용합니다. 이온 소스는 고정밀도 밀링 기능을 제공하며, 이는 더 세밀한 해상도 이미징 및 정밀 나노 구조를 달성하는 데 중요합니다. 소스는 또한 가변 전압 범위를 특징으로하며, 고출력, 미세 해상도 이미징을 허용합니다. 이 장치의 샘플 플랫폼은 금속, 반도체, 유기 물질 등 다양한 샘플 크기와 재료를 수용 할 수 있습니다 (예: 금속, 반도체, 유기물). 이것은 액티브 벤팅 머신 (active venting machine) 에 의해 더욱 확대되어 샘플 무결성을 유지하고 오염 위험을 줄이는 데 도움이됩니다. 이 플랫폼은 또한 통합 냉각 도구 (Integrated Cooling Tool) 를 갖추고 있어 작동 중 열 손상으로부터 샘플을 보호합니다. 에셋의 이미징 파라미터 (Imaging parameters) 도 매우 조절 가능하여 모든 이미징 매개변수를 정확하게 제어할 수 있습니다. 이 모델은 밝은 필드 및 다크 필드 이미징 (dark-field imaging) 과 다양한 추가 이미징 모드를 모두 지원합니다. 여기에는 에너지 필터링 검출기 사용, 자동 초점, 고급 자동화 제어 등이 포함됩니다. 이 장비는 또한 3 차원으로 복잡한 이미징 및 제작을 지원하여 매우 상세한 나노 구조를 만들 수 있습니다. 전반적으로 Expida 1285는 고급 이미징 시나리오를위한 강력한 도구입니다. 다재다능한 이온 소스 (ion source) 와 유연한 샘플 플랫폼은 원자 수준에서 상세한 이미징 해상도를 가능하게합니다. 또한, 고급 이미징 매개변수 및 자동화 컨트롤을 통해 상세한 나노 구조를 고정밀 제작할 수 있습니다. 마지막으로, 통합 냉각 시스템 (Integrated Cooling System) 과 액티브 벤팅 장치 (Active Venting Unit) 는 샘플을 잠재적 피해로부터 보호하는 데 도움이되며, 이를 연구 및 산업 응용 분야에 이상적인 도구로 만듭니다.