판매용 중고 FEI Accura 800 / 986 #9192766

FEI Accura 800/986 Ion Milling System은 다양한 재료로 하위 미크론 기능을 생산하도록 설계된 강력하고, 다용도 및 다용도 장치입니다. 이 "시스템 '은 넓은 범위 의 빔" 에너지' 와 용량 의 변수 를 가진 공기 혹은 진공 호환 을 한다. 6 개의 다른 방향 각도에 최대 6mm2 의 샘플링 기능이 있으며, 높은 정밀도와 다양한 어플리케이션을 제공합니다. FEI Accura에는 후면에 가스 이온화 된 소스 (gas ionized source) 와 전면에 스퍼터링 건 (sputtering gun) 이온 밀링 챔버가 있습니다. 스퍼터링 건은 4 개의 노즐로 설계되어 다양한 각도 스퍼터링 (sputtering) 을 통해 프로세스를 미세 조정할 수 있습니다. 디지털 데이터 프로세서 (digital data processor) 에 연결되어 있어 정확한 매개변수를 설정하고 프로세스를 실시간으로 모니터링할 수 있습니다. 이온 밀링 공정은 고해상도로 서브 미크론 기능을 머시닝 할 수 있습니다. 그것 은 "가스 '를" 이온' 화 시키고 "가스 '" 이온' 을 "밀링 '실 안 으로 보내면 효과 가 있다. 이 챔버에는 밀링 할 대상 재료가 채워져 있습니다. 가스 이온은 재료와 상호 작용하여 고해상도 기능을 분해합니다. FEI Accura는 건조 및 습식 처리 모드 모두에서 작동 할 수 있습니다. 건조 처리에서, 가스 이온은 표적 물질쪽으로 가속화되어, 추가 액체없이 고해상도 기능을 생성한다. 습식 처리 모드에서는 "가스 '" 이온' 을 액체 전해질 과 결합 시켜 매우 섬세 한 기계 작업 을 더욱 지원 한다. FEI Accura는 높은 수준의 정확도로 빠른 처리를 수행하도록 설계되었습니다. 정밀 나노 미터 (nanometer) 기능, 0.15 nm 감소 및 0.25 미크론 아래로 패턴 화 된 피쳐를 생성하는 데 사용할 수 있습니다. 50 ~ 500 keV 범위의 가변 빔 에너지를 제공하여 섬세한 기판을 손상시키지 않고 더 높은 품질의 머시닝을 제공합니다. FEI Accura는 광범위한 응용 프로그램에 효과적인 도구입니다. 이 시스템은 마이크로 머시닝, 미세 샘플 준비, X- 선 회절 샘플 준비, 샘플 특성, 마이크로 에칭, 나노 패턴 및 서브 미크론 처리에 사용됩니다. 높은 정밀도 머시닝 (Machining), 빠른 처리 (Rapid Processing), 뛰어난 품질 결과를 원하는 많은 연구 실험실 및 회사에 적합한 선택입니다.