판매용 중고 VARIAN VIISta #293596002

VARIAN VIISta ion implanter and monitor는 반도체 업계에서 전하와 전류를 조작하는 데 사용되는 정교한 정밀 도구입니다. 이온 이식 (ion implantation) 및 모니터링 (monitoration) 에 주로 사용되지만 다른 기능도 많이 있습니다. 이온 이식 (ion implantation) 은 이온이 가속화되어 고체 물질을 통과시켜 전기 특성을 변경하는 과정이다. 이것 은 물질 의 구조, 신체적 특징, 심지어 화학적 조성물 의 구조 를 조절 하기 위해 행해진다. 비이스타 (VIISta) 는 이 이온 가속의 농도, 유형, 속도를 정확하게 제어하기 위해 사용되어 정확하고 일관된 결과를 보장한다. VARIAN VIISta는 이온 원 역할을하는 강력한 고 에너지 전자 총을 포함합니다. 이 총은 최대 100 keV 의 에너지에 도달 할 수 있으며, 이는 이온을 다양한 재료로 이식하기에 충분합니다. 총 (gun) 의 데이터 판독값은 추가 처리, 더 큰 제어 및 향상된 정확도를 위해 VIISta에있는 컴퓨터로 전송됩니다. VARIAN VIISta에는 전자 총의 출력을 모니터링하는 고급 제어 장비도 포함되어 있습니다. 이 "시스템 '은" 이온' 의 속도 와 종류 와 농도 를 미세 하게 조정 할 수 있다. 이것 은 "에너지 '수준 과" 임플란테이션' 방향 을 정확 하고 안전 하게 제어 할 수 있게 하기 때문 에 착상 과정 에 특히 도움 이 된다. 또한 이 장치는 프로세스의 현재 상태도 모니터링할 수 있습니다. 고정밀도 온도, 전압 모니터링 덕분에 임플란테이션 프로세스 (Implantation Process) 상태의 변경 사항을 즉시 파악하고 추적할 수 있습니다. 따라서 발생할 수 있는 모든 문제를 보다 정확하고 신속하게 줄일 수 있습니다. 마지막으로, VIISta는 안전 위험이 확인되면 전체 프로세스를 종료하는 안전 기계 (Safety Machine) 를 통합합니다. 이는 인력을 안전하게 보호하고 임플랜테이션 프로세스를 효율적이고 정확하게 실행하는 데 도움이됩니다. 결론적으로, VARIAN VIISta 이온 임플란터 및 모니터는 고도로 고급적이고 신뢰할 수있는 장비입니다. 그것 은 "이온 '착상 에서 추측력 을 얻어 더 많은 정확성 과 정확성 과" 안전' 을 얻게 한다.